최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0228840 (1999-01-12) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 37 인용 특허 : 14 |
A plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system having an upper chamber for performing a plasma enhanced process, and a lower chamber having an access port for loading and unloading wafers to and from a wafer boat. The system includes apparatus for moving the wafer boat from the upper cha
[ What is claimed is:] [1.]1. A reactor for deposition of a film on a surface of each of a plurality of wafers, said reactor comprising:(a) a first chamber having an interior for placement of a wafer boat for processing a plurality of wafers, said chamber further including(i) a chamber wall having a
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.