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Sputtering chamber coil 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • 1509
출원번호 US-0090618 (1998-07-13)
발명자 / 주소
  • Gopalraja Praburam
  • Xu Zheng
  • Rosenstein Michael
  • Forster John C.
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Konrad Raynes & Victor
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 16

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

The design for sputtering chamber coil, as shown and described.

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Ngan Kenny King-Tai, Avoiding contamination from induction coil in ionized sputtering.
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  2. Ishii Nobuo (Yamanashi-ken JPX) Shinohara Kibatsu (Yokohama JPX), Concentric rings with different RF energies applied thereto.
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  3. Mller Karl-Heinz (Wissen DEX), Continuous tensioning ring for mounting convoluted boots.
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  4. Araki Yoichi,JPX ; Inazawa Koichiro,JPX ; Furuya Sachiko,JPX ; Ogasawara Masahiro,JPX ; Koshimizu Chishio,JPX ; Song Tiejun,JPX, Etching process.
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  5. Campbell Gregor A. (Glendale CA) Conn Robert W. (Los Angeles CA) Katz Dan (Beverly Hills CA) Parker N. William (Fairfield CA) de Chambrier Alexis (Glendale CA), High density plasma deposition and etching apparatus.
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  6. Oetiker Hans (Horgen CHX), Method for connecting two parts along abutting edges and connection obtained thereby.
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  7. Tobe Ryoki,JPX ; Sasaki Masao,JPX ; Sekiguchi Atsushi,JPX ; Takagi Ken-ichi,JPX, Method of depositing titanium-containing conductive thin film.
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  8. Rakestraw Roger (8315 S. Rte. 53 Woodridge IL 60515) Rakestraw Donald L. (47 Cambridge La. Lincolnshire IL 60015), Personalized identification band.
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  9. Ishii Nobuo (Yamanashi-ken JPX), Plasma processing apparatus.
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  10. Takagi Ken-ichi (Tachikawa JPX), Plasma processing apparatus.
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  11. Higuchi Kimihiro,JPX ; Koshimizu Chishio,JPX ; Koshi Ryoichiro,JPX ; Iwata Teruo,JPX ; Ishii Nobuo,JPX, Plasma processing method, plasma processing apparatus, and plasma generating apparatus.
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  12. Ashtiani Kaihan Abidi (Nanuet NY), Plasma producing method and apparatus including an inductively-coupled plasma source.
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  13. Paranjpe Ajit P. (Plano TX), RF induction plasma source for plasma processing.
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  14. Skinner William O. (Grabill IN), Radially expandable locking sleeve device.
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  15. Collins Kenneth S. (San Jose CA) Roderick Craig A. (San Jose CA) Trow John R. (Santa Clara CA) Yang Chan-Lon (Los Gatos CA) Wong Jerry Y. (Fremont CA) Marks Jeffrey (San Jose CA) Keswick Peter R. (Ne, Silicon scavenger in an inductively coupled RF plasma reactor.
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  16. Morrison ; Jr. Charles F. (Boulder CO), Sputtering method and apparatus utilizing improved ion source.
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이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Pohl, Harald; Lebert, Christian, Curved filter screen.
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  2. Gopalraja, Praburam; Xu, Zheng; Rosenstein, Michael; Forster, John C., Feedthrough overlap coil.
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