$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Method of degassing aqueous coating solution 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-019/00
출원번호 US-0459563 (1999-12-13)
우선권정보 JPX, 19981211, 10-352223
발명자 / 주소
  • Hayashi Kenji,JPX
출원인 / 주소
  • Fuji Photo Film Co., Ltd., JPX
대리인 / 주소
    Sughrue, Mion, Zinn, Macpeak & Seas, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 15

초록

The method of degassing an aqueous coating solution having a viscosity of 1 centipoise or more comprises using a fluoro resin film as the degassing membrane and can degas fast without the generation of microbubbles which causes coating troubles even in the case of the solutions having a high viscosi

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. A method of degassing an aqueous coating solution containing a water-soluble polymer having a viscosity of 1 centipoise or more which comprisesflowing the aqueous coating solution on one side of a nonporous fluoro resin film having a thickness of 10 to 100 .mu.m, andred

이 특허에 인용된 특허 (15)

  1. Hamasaki Sadakatsu,JPX ; Kobayashi Masayuki,JPX, Assembly for deaeration of liquids.
  2. Hamasaki Sadakatsu,JPX ; Kobayashi Masayuki,JPX ; Yokota Takushi,JPX ; Kobashi Kanako,JPX, Assembly for deaeration of liquids.
  3. Tateyama Kiyohisa,JPX, Deaerating apparatus and treatment apparatus with gas permeable films.
  4. Kalfoglou George (Houston TX), Deoxygenation of aqueous polymer solutions used in enhanced oil recovery processes.
  5. van Schravendijk Bart J. (Sunnyvale CA) Burkhart Christopher W. (San Jose CA) Santiago Tito H. (San Mateo CA) Pomeroy Charles E. (Santa Clara CA) Lind Jeffrey W. (Santa Cruz CA), Device for removing dissolved gas from a liquid.
  6. Hammerton Denis (Wayland MA), Direct readout dissolved gas measurement apparatus.
  7. Tomita, Kazuichi; Mano, Hiroshi; Matsuyama, Fumio; Isomura, Akihiko, Fluororesin filter.
  8. Adiletta Joseph G., Hydrophobic-oleophobic fluoropolymer compositions.
  9. Sugimoto Hiroaki,JPX ; Kitagawa Masaru,JPX, Method and apparatus for degassing processing solution for substrates.
  10. Dairaku Kazuo (Kobe JPX) Kuki Kazuo (Kobe JPX), Method and apparatus for measuring concentrations of gaseous or volatile substances in liquids.
  11. Sims Marc, Method for demulsification of emulsions containing dense gas and liquid and a surfactant.
  12. Hasebe Keizo,JPX ; Iino Hiroyuki,JPX ; Semba Norio,JPX ; Kimura Yoshio,JPX, Resist processing apparatus.
  13. Ootani Akira,JPX ; Hayama Hideki,JPX ; Kondou Yoshihiko,JPX, Spiral wound type membrane module, spiral wound type membrane element and running method thereof.
  14. Hayashi Toyohide,JPX ; Iwami Masaki,JPX, Treating liquid supplying method and apparatus.
  15. Shirato Kozo (Omiya JPX) Kawashima Kazuyasu (Yokohama JPX), Unit for degassing liquids.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Basol,Bulent M.; Uzoh,Cyprian E., Apparatus for reduction of defects in wet processed layers.
  2. Basol,Bulent M.; Uzoh,Cyprian E., Method for reduction of defects in wet processed layers.
  3. Jin, Sung-Hun, Method of manufacturing amorphous IGZO TFT-based transient semiconductor.
  4. Parekh,Bipin; Ly,Saksatha; Wu,Qunwei, Process for degassing an aqueous plating solution.
  5. Shite, Hideo; Kimura, Kazuhiko; Yumoto, Tomoyuki, Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로