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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0095197 (1998-06-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 1 |
The present invention provides a method for depositing powder particles on a substrate. The method comprises forming a planar plasma armature, accelerating the plasma armature, accelerating a column of gas with the plasma armature; and accelerating the powder particles with the column of gas. The pr
[ What is claimed:] [1.]1. A method for depositing powder particles on a substrate, comprising:forming a plasma armature;accelerating the plasma armature;accelerating a column of gas with the plasma armature; andaccelerating the powder particles with the column of gas toward a substrate;whereby the
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