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Correction device for correcting the lens defects in particle-optical apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/145
출원번호 US-0367176 (1999-08-09)
우선권정보 EPX, 19971211, 97203891
국제출원번호 PCT/IB98/01977 (1998-12-10)
§371/§102 date 19990809 (19990809)
국제공개번호 WO-9930343 (1999-06-17)
발명자 / 주소
  • Krijn Marcellinus PC. M.,NLX
  • Mentink Sjoerd A. M.,NLX
출원인 / 주소
  • Philips Electron Optics B.V., NLX
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 7

초록

Electron-optical rotationally symmetrical lenses inevitably suffer from spherical and chromatic aberration which often impose a limit on the resolution. These lens defects cannot be eliminated by compensation by means of rotationally symmetrical fields. In order to enhance the resolution nevertheles

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. A particle-optical apparatus which comprises:a particle source (1) for producing a beam of electrically charged particles which travel along an optical axis of the apparatus in order to irradiate an object (13) to be irradiated in the apparatus by means of the particle

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Martin Frederick W. (Colebrook Rd. North Stratford NH 03590), Achromatic deflector and quadrupole lens.
  2. Tiemeijer Peter C.,NLX, Correction device for correcting chromatic aberration in particle-optical apparatus.
  3. Krijn Marcellinus P. C. M.,NLX ; Van Der Mast Karel Diederick, Correction device for correcting the spherical aberration in particle-optical apparatus.
  4. Krijn Marcellinus P.C.M.,NLX ; Henstra Alexander,NLX ; Van Den Mast Karel D.,NLX, Correction device for the correction of lens aberrations in particle-optical apparatus.
  5. Rose Harald (Darmstadt DEX), Correction system for a charged-particle beam apparatus.
  6. Krijn Marcellinus P. C. M.,NLX, Quadrupole device for projection lithography by means of charged particles.
  7. Rose Harald (Darmstadt DEX), Wien-type imaging corrector for an electron microscope.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Koziol, Thomas; Epting, Alec; Deloge, Stephen Patrick; Baker, Jeffrey, Autofocusing optical imaging device.
  2. Koziol, Thomas; Epting, Alec; Deloge, Stephen Patrick; Baker, Jeffrey, Autofocusing optical imaging device.
  3. Kienzle,Oliver; Knippelmeyer,Rainer; Uhlemann,Stephan; Haider,Max; M체ller,Heiko, Beam guiding arrangement, imaging method, electron microscopy system and electron lithography system.
  4. Zach, Joachim, Corrector.
  5. Henstra, Alexander, Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens.
  6. Henstra, Alexander; Scheinfein, Michael Ross, Corrector for the correction of chromatic aberrations in a particle-optical apparatus.
  7. Bischoff, Maarten; Henstra, Alexander; Luecken, Uwe; Tiemeijer, Peter Christiaan, Distortion free stigmation of a TEM.
  8. Hatakeyama, Masahiro; Murakami, Takeshi; Noji, Nobuharu; Nakasuji, Mamoru; Sobukawa, Hirosi; Mori, Satoshi; Karimata, Tsutomu; Yamazaki, Yuichiro; Nagahama, Ichirota, Electron beam apparatus and an aberration correction optical apparatus.
  9. Sawada, Hidetaka, Electron microscope.
  10. Rose, Harald, Electron-optical corrector for eliminating third-order aberations.
  11. Pease, Michael; Garmon, Scott; Baker, Jeffrey, Imaging terminal having focus control.
  12. Tiemeijer, Peter Christiaan; Luecken, Uwe; de Jong, Alan Frank; Slingerland, Hendrik Nicolaas, Method of use for a multipole detector for a transmission electron microscope.
  13. Yamazaki, Yuichiro; Nagahama, Ichirota, Projection electron beam apparatus and defect inspection system using the apparatus.
  14. Hosokawa, Fumio, Spherical aberration corrector for electron microscope.
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