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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0550888 (2000-04-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 35 |
The apparatus provides a temperature controlled environment for processing semiconductor wafers at elevated temperatures. A hot wall process chamber is used for the process steps. The process chamber includes three zones with independent temperature control capabilities. The apparatus is capable of
[ What is claimed is:] [1.]1. An apparatus for thermally processing a semiconductor wafer, the apparatus comprising:a housing, the housing having a port for loading and unloading the wafer, the housing having a purge gas inlet port and a purge gas exit port for flowing a purge gas through the housin
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