[특허]Reactive oxygen-assisted ion implantation into metals and products made therefrom

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Reactive oxygen-assisted ion implantation into metals and products made therefrom 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-014/08 C23C-014/48
출원번호	US-0304960 (1994-09-13)
발명자 / 주소	Bruce D. Sartwell Paul M. Natishan
출원인 / 주소	The United States of America as represented by the Secretary of the Navy
대리인 / 주소	John J. Karasek
인용정보	피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 13

초록 ▼

A method of ion implantation using oxygen backfill and a modified surface layer formed therefrom are provided. The method of ion implantation includes the steps of placing a substrate metal in an ion implantation vacuum chamber, introducing oxygen into the ion implantation vacuum chamber and directing a beam of ions at the substrate metal. The modified surface includes a substrate metal and implanted atoms at a surface of the substrate metal. The implanted atoms are integrated with the substrate metal. The substrate metal has an implanted atom concentration of at least 5 atomic % to a depth of over 250 .ANG..

대표청구항 ▼

1. A method of ion implantation, comprising the steps of:placing a substrate metal selected from the group consisting of aluminum and aluminum-based alloys in an ion implantation vacuum chamber; introducing oxygen molecules into the ion implantation vacuum chamber to a pressure in the range of 1.times.10-5 torr to 10.times.1031 5 torr; and directing a beam of ions at the substrate metal, said ion being selected from the group consisting of tantalum ions, titanium ions, zirconium ions, tungsten ions, molybdenum ions, and silicon ions.

이 특허에 인용된 특허 (13)

Frankel Gerald S. (Ossining) Khandros Igor Y. (Peekskill) Madakson Peter B. (Peekskill NY), Corrosion protection by FeMn by ion implantation.
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Yates Ronald L. (Midland MI) Hagans Patrick L. (Midland MI), Corrosion resistant magnesium and aluminum oxalloys.
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Hashimoto Isao (Hitachi JPX) Oka Yuzo (Hitachi JPX), Film formation through co-deposition with high and low energy beams.
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Kumar Nalin (Austin TX), Method and apparatus for applying a compound of a metal and a gas onto a surface.
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Abe Haruhiko (Itami JPX) Mashiko Yoji (Itami JPX) Harada Hiroshi (Kawanishi JPX) Asai Sotoju (Amagasaki JPX) Mizuguchi Kazuo (Amagasaki JPX) Nomoto Sumio (Itami JPX), Method for forming a fine pattern of an aluminum film.
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Armini Anthony J. (Manchester MA) Bunker Stephen N. (Wakefield MA), Method for ion beam treating orthopaedic implant components.
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Hashimoto, Eigo; Nanya, Takanori, Method for making oxide based electrochromic display devices.
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Bhattacharyya Arup (Essex Junction VT) Chu Wei-Kan (Poughkeepsie NY) Howard James K. (Fishkill NY) Wiedman Francis W. (Stowe VT), Method for manufacture of ultra-thin film capacitor.
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Damrow Paul A. (Concord CA) Tsang Floris Y. (Walnut Creek CA), Method for molybdenum-coated aluminum current collector for alkali metal/sulfur battery cells.
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Fukuda Yuzuru (Kanagawa JPX), Method for preparing electrophotographic photoreceptor.
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Yates Ronald L. (Midland MI) Hagans Patrick L. (Midland MI), Method of making corrosion resistant magnesium and aluminum oxyalloys.
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Yonezawa Toshio (Yokosuka JPX) Aoyama Masaharu (Yokohama JPX), Semiconductor device and a method for manufacturing the same.
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Ecer Gunes M. (Irvine CA) Wood Susan (Pittsburgh PA) Schreurs Jan J. (Plum Boro PA), Wear resistant steel articles with carbon, oxygen and nitrogen implanted in the surface thereof.
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이 특허를 인용한 특허 (2)

Omstead, Thomas; Lee, William Davis; Ma, Tristan, Ion implant assisted metal etching.
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Omstead, Thomas R.; Ma, Tristan; Godet, Ludovic, Techniques and apparatus for anisotropic metal etching.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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