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Integrated ion implant scrubber system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
  • B01D-053/34
출원번호 US-0060675 (1998-04-15)
발명자 / 주소
  • Michael W. Hayes
  • Mark R. Holst
  • Jose I. Arno
출원인 / 주소
  • Advanced Technology Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Steven J. Hultquist
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 18

초록 ▼

An ion implantation process system, including an ion implanter apparatus for carrying out an ion implantation process. A supply of source gas for the ion implantation process is arranged to flow to the ion implanter apparatus, which discharges an effluent gas stream including ionization products of

대표청구항 ▼

1. An ion implantation process system, comprising (a) a supply of source gas for the ion implantation process, joined in flow communication with (b) an ion implanter apparatus, with the ion implanter apparatus discharging an effluent gas stream to (c) a dry scrubber effluent abatement apparatus, for

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Holst Mark ; Balliew Patrick, Alternating wash/dry water scrubber entry.
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  2. Tom Glenn M. (New Milford CT), Differential gas sensing in-line monitoring system.
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  3. Hultquist Steven J. (Raleigh NC) Tom Glenn M. (New Milford CT), Dopant delivery system for semiconductor manufacture.
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  4. Lane Scott ; Shah Dinesh ; Colman Ronald,GB2 ; Heading Liam R.,GB6 ; Simpson Eric,GBX, Flow-stabilized wet scrubber system for treatment of process gases from semiconductor manufacturing operations.
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  5. Tom Glenn M. ; McManus James V. ; Olander W. Karl, Fluid storage and delivery system comprising high work capacity physical sorbent.
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  6. Tom Glenn M. ; McManus James V. ; Olander W. Karl, Fluid storage and delivery system utilizing carbon sorbent medium.
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  7. Tom Glenn M. (New Milford CT), In-line detector system for real-time determination of impurity concentration in a flowing gas stream.
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  8. Tom Glenn M. (New Milford CT), In-line detector system for real-time determination of impurity concentration in a flowing gas stream.
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  9. Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX) Akita Noboru (Kanagawa JPX) Hiramoto Tadashi (Kanagawa JPX) Sasaki Kohhei (Kanagawa JPX), Method for cleaning exhaust gases.
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  10. Sugimori Yoshiaki,JPX ; Watanabe Tadaharu,JPX ; Kikuchi Hitoshi,JPX ; Endo Fumitaka,JPX ; Ichimura Shinji,JPX ; Yoshida Megumi,JPX ; Imai Hiroaki,JPX, Method for removing hydrides, alkoxides and alkylates out of a gas using cupric hydroxide.
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  11. Leveen Lindsay, Microelectronic component fabrication facility, and process for making and using the facility.
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  12. Jones Barbara L.,GBX ; Peter Kenneth W.,GBX ; Wylie Thomas F.,GBX, Multi-gas sensor systems for automotive emissions measurement.
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  13. Miller Cynthia A. ; Tom Glenn M., Piezoelectric sensor for hydride gases, and fluid monitoring apparatus comprising same.
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  14. Otsuka Kenji,JPX ; Arakawa Satoshi,JPX ; Nawa Youji,JPX, Process for cleaning harmful gas.
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  15. Shimada Takashi (Hiratsuka JPX) Okumura Toshio (Hiratsuka JPX) Hatakeyama Toshiya (Hiratsuka JPX), Process for cleaning harmful gas.
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  16. Tom Glenn M. ; McManus James V., Process system with integrated gas storage and delivery unit.
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  17. Tom Glenn M. (New Milford CT) McManus James V. (Danbury CT), Storage and delivery system for gaseous hydride, halide, and organometallic group V compounds.
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  18. Rheem Byeong Ki,KRX ; Oh Sang Guen,KRX, Water-removing exhaust system for an ion implanter and a method for using the same.
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이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Ferron, Shawn; Kelly, John; Vermeulen, Robbert, Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants.
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  2. Horsky, Thomas N.; Milgate, III, Robert W., Controlling the flow of vapors sublimated from solids.
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  3. Kishkovich, Oleg P.; Goodwin, William M., Detection of base contaminants in gas samples.
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  4. Dietz, James; Bishop, Steven E.; McManus, James V.; Lurcott, Steven M.; Wodjenski, Michael J.; Kaim, Robert; DiMeo, Jr., Frank, Fluid storage and dispensing system including dynamic fluid monitoring of fluid storage and dispensing vessel.
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  5. Dietz, James; Bishop, Steven E.; McManus, James V.; Lurcott, Steven M.; Wodjenski, Michael J.; Kaim, Robert; Dimeo, Jr., Frank, Fluid storage and dispensing system including dynamic fluid monitoring of fluid storage and dispensing vessel.
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  6. Dietz, James; Bishop, Steven E.; McManus, James V.; Lurcott, Steven M.; Wodjenski, Michael J.; Kaim, Robert; Dimeo, Jr., Frank, Fluid storage and dispensing system including dynamic fluid monitoring of fluid storage and dispensing vessel.
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  7. McManus, James V.; Dietz, James; Lurcott, Steven M., Fluid storage and dispensing system including dynamic fluid monitoring of fluid storage and dispensing vessel.
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  8. Wodjenski,Michael J.; Arno,Jose I., Gas cabinet including integrated effluent scrubber.
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  9. Loldj, Youssef A.; Crawford, Shaun W., Interface for operating and monitoring abatement systems.
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  10. Ogata, Seiji; Fukui, Ryota; Yokoo, Hidekazu; Nishihashi, Tsutomu, Ion implanting apparatus.
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  11. Horsky, Thomas N.; Milgate, III, Robert W.; Sacco, Jr., George P.; Jacobson, Dale C.; Krull, Wade A., Method and apparatus for extending equipment uptime in ion implantation.
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  12. Horsky, Thomas N.; Milgate, III, Robert W.; Sacco, Jr., George P.; Jacobson, Dale C.; Krull, Wade A., Method and apparatus for extending equipment uptime in ion implantation.
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  13. Sweeney, Joseph D.; Marganski, Paul J.; Olander, W. Karl; Wang, Luping, Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream.
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  14. Sweeney,Joseph D.; Marganski,Paul J.; Olander,W. Karl, Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream.
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  15. Cook, Kevin S.; Manning, Dennis; McIntyre, Edward K.; Goldberg, Richard, Method for extending equipment uptime in ion implantation.
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  16. Wang, Justin X.; Sokhey, Simran K.; Spencer, Jason E.; Cai, Yeping, Methods and active materials for reducing halide concentration in gas streams.
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  17. Clark, Daniel O.; Raoux, Sebastien; Vermeulen, Robert M.; Crawford, Shaun W., Methods and apparatus for sensing characteristics of the contents of a process abatement reactor.
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  18. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Todd, Leonard B.; Vermeulen, Robbert, Reactor design to reduce particle deposition during process abatement.
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  19. Olander, W. Karl; Sweeney, Joseph D.; Wang, Luping, Semiconductor manufacturing facility utilizing exhaust recirculation.
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  20. Groom, Richard C., System and method for heating solid or vapor source vessels and flow paths.
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