[특허]Diagnosis process of vacuum failure in a vacuum chamber

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Diagnosis process of vacuum failure in a vacuum chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01M-003/24
출원번호	US-0374023 (1999-08-13)
발명자 / 주소	Jiaxiang Zhou
출원인 / 주소	Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소	Moser, Patterson & Sheridan, LLP
인용정보	피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 8

초록 ▼

A quick set of procedures for diagnosing the cause of a failure in a vacuum system having a pump and a chamber is disclosed. If the base pressure of the system has failed, but the rate of rise has not, then the most likely cause of the failure may be in the pump. If the rate of rise has failed, but the base pressure has not, then the most likely cause of the failure may be in the chamber. If the base pressure and rate of rise have both failed, then the most likely cause of the failure is in the chamber, but there is a slight chance of a failure in the pump. Measurements of the partial pressures of certain residual gases in the system may indicate a leak in the system. Measurements of the partial pressures of certain residual gases while turning off and on the lamps in the system may indicate a leak in the lamps. Measurements of the partial pressure of helium or other relevant gas, while moving a source of helium around the outside surface of the system, may determine the location of a leak.

대표청구항 ▼

1. A method for determining a leak location in a vacuum system having a pump side and a chamber side, the method comprising:testing the vacuum system to determine if a base pressure failure is present: testing the chamber side to determine if a rate of rise failure is present; determining the likely location of the leak to be in the chamber side if the rate of rise failure is present and the base pressure failure is not present; determining the likely location of the leak to be in the pump side if the base pressure failure is present and the rate of rise failure is not present; and determining the likely location of the leak to be in the chamber side if both the rate of rise failure and the base pressure failure are present.

이 특허에 인용된 특허 (8)

Gaudet Peter W. (Chelmsford MA) Olsen Donald A. (Millis MA) Eacobacci Michael J. (Randolph MA) Harvell John T. (Sudbury MA) Lepofsky Robert J. (Wellesley MA) Roche David E. (Nashua NH) Bender Steven , Electronically controlled cryopump.
상세보기
Ueda Yasuhiro (Tokyo JPX) Takahashi Hironari (Itami JPX), Leak detection in a reduced pressure processing apparatus.
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Tien Fu-Kang,TWX, Leakage detection apparatus equipped with universal adapter head and method of testing.
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Brger Heinz D. (Wertheim DEX), Method of leak testing a test container with a tracer gas.
상세보기
Jenkins Anthony (Fowlmere GB2), Temperature compensation in differential pressure leak detection.
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Shaw Paul B. (Houston TX) Sherlock Charles N. (Spring TX) Prior Rick W. (Houston TX), Time of flight measurement/rate of rise measurement method for remote leak detection in evacuated spaces.
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Bergquist Lyle E. (Lakewood CO), Ultra sensitive noble gas leak detector.
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Edwards ; Jr. David (7 Brown\s La. Bellport NY 11713), Vacuum leak detector and method.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

Funakoshi, Haruo, Abnormality-cause identifying apparatus and method.
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Izawa, Hiroshi; Echizen, Hiroshi; Ohtoshi, Hirokazu; Tanaka, Masatoshi, Leak judgment method, and computer-readable recording medium with recorded leak-judgment-executable program.
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Arruda,Joseph D.; Keay,Kathleen D.; Gilchrist,Glen F. R., System and method for electronic diagnostics of a process vacuum environment.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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