최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0687572 (2000-10-13) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 18 |
A gas manifold for a modular gas box system for delivering contaminant-free, precisely metered quantities of process and purge gases to a semiconductor process reaction chamber. The manifold provides the benefit of allowing the use of standard annular gaskets or o-rings for providing seals between t
1. A manifold for a gas box comprising:a surface; a manifold port in the surface; at least one station in the surface for receiving gas controlling and gas monitoring components, the station including an inwardly facing side wall extending into the manifold from the surface to a base of the station,
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.