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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0909498 (2001-07-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 10 |
An auxiliary gasline-heating unit is used in a chemical vapor deposition apparatus. The auxiliary gasline-heating unit serves to increase the exit temperature of the mixture of N2 gas and He-dilute gas in order to prevent TDMAT, Ti[N(CH3)2]4, from being condensed and becoming a gasline contaminant w
1. A gasline system for delivering gases for chemical vapor deposition, the system comprising a Ti[N(CH3)2]4 ampule, a carrier gasline connected to the Ti[N(CH3)2]4 ampule, and a mixture gasline consisting of a nitrogen gasline and a helium-dilute gasline, wherein the mixture gasline is connected to
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