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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0433067 (1999-11-03) |
우선권정보 | JP-0313234 (1998-11-04); JP-0313235 (1998-11-04); JP-0313238 (1998-11-04); JP-0313034 (1999-11-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 9 |
A polishing apparatus and a polishing method can effectively prevent large diameter particles from being fed with slurry to an object to be polished. A large-diameter particle screener blocks or disperses large diameter particles from entering the slurry. Then, slurry free from large diameter partic
1. A polishing apparatus, comprising:holding means for holding an object to be polished; a polishing head having a polishing surface; a polishing head driver to operate said polishing head, with said polishing head operated to polish the object with said polishing surface while being supplied with a
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