최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0353285 (1999-07-14) |
우선권정보 | DE-0031719 (1998-07-15) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 61 인용 특허 : 8 |
A process for producing a waveguide, wherein a first layer is deposited on a silicon or glass substrate, a core structure is subsequently structured, and the core structure is protected by a protective layer. Prior to each step for depositing a new layer, the layer that has just been applied is fluo
1. A process for producing planar waveguide structures, comprising the steps of:depositing a first lower layer (2) on a silicon or glass substrate (1); etching the first lower layer (2) to provide a first fluoride layer; depositing a core structure (3) on the first fluoride layer of the first lower
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.