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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0782105 (2001-02-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 21 |
A TEOS trap for controlling TEOS polymerization from reaction furnace effluent in a vacuum pump line a SiO2 CVD process includes a molecular species-selective flow impeding medium that adsorbs and retains TEOS and water molecules from the effluent long enough to consume substantially all the water m
1. A TEOS trap for preventing build-up of liquid and solid phase SiO2-rich TEOS polymers in a pump line that carries reaction furnace effluent laden with gaseous TEOS and water molecules along with gaseous ethylene and other effluent molecules, comprising:a housing enclosing a chamber, said housing
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