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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0561980 (2000-05-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 11 |
The present invention provides an improved cold gas-dynamic spraying process utilizing a carrier gas and small-diameter particulates whereby the particulate-laden carrier gas is directed to a ceramic filter unit where the particulates are separated out and the particulate-free carrier gas is analyze
1. An improved cold gas-dynamic spraying process comprising spraying a carrier gas containing small diameter particulates onto a substrate thereby coating said substrate in a spraying chamber, the improvement comprising the steps of:removing the particulate-containing carrier gas from said chamber;
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