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High contrast, ultrafast optically-addressed ultraviolet light modulator based upon optical anisotropy 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02F-001/07
출원번호 US-0638156 (2000-08-15)
발명자 / 주소
  • Michael Wraback
  • Paul H. Shen
  • Shaohua Liang
  • Chandrasekhar R. Gorla
  • Yicheng Lu
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 1

초록

A high contrast ultrahigh speed optically-addressed ultraviolet light modulator exploits the optical anisotropy in a ZnO film epitaxially grown on (01 {overscore (1)}2) sapphire. This device, which could also be realized in a ZnO bulk crystal or similar wide bandgap material, achieves both high cont

대표청구항

1. A high contrast, high speed ultraviolet light modulator comprising:a light source; a semiconductor having a bandgap in the ultraviolet range grown on a substrate surface of low rotation symmetry whereby the semiconductor exhibits optical anisotropy; a pulse generator for delivering a pulsed modul

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Shmagin Irina K. ; Muth John F. ; Kolbas Robert M., Optical information storage systems and methods using heterostructures comprising ternary group III-V nitride semicondu.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Ulrich, Wilhelm; Okon, Thomas; Wabra, Norbert; Gruner, Toralf; Bittner, Boris; Graeschus, Volker, Method for correcting a lithography projection objective, and such a projection objective.
  2. Ulrich, Wilhelm; Okon, Thomas; Wabra, Norbert; Gruner, Toralf; Bittner, Boris; Graeschus, Volker, Method for correcting a lithography projection objective, and such a projection objective.
  3. Tatoh, Nobuyoshi; Iwamoto, Hiromi; Hirose, Takaaki, Optical communication module having a constant plane of polarization of transmitted light.
  4. McGeoch,Malcolm W., Optically addressed extreme ultraviolet modulator and lithography system incorporating modulator.
  5. Wabra, Norbert; Eder, Robert, Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus.
  6. Wabra, Norbert; Eder, Robert, Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus.
  7. Wabra, Norbert; Eder, Robert, Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus.
  8. Wabra, Norbert; Eder, Robert, Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus.
  9. Wabra, Norbert; Eder, Robert, Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus.
  10. Lu,Yicheng; Sheng,Haifeng; Muthukumar,Sriram; Emanetoglu,Nuri William; Zhong,Jian; Liang,Shaohua, Schottky diode with silver layer contacting the ZnO and MgZnO films.
  11. Lu, Yicheng; Sheng, Haifeng; Muthukumar, Sriram; Emanetoglu, Nuri William; Zhong, Jian, Schottky diode with silver layer contacting the ZnO and MgxZn1-xO films.
  12. Koike, Jun; Ieki, Hideharu, ZnO/sapphire substrate and method for manufacturing the same.
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