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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0758839 (2001-01-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 15 |
A linear aperture deposition apparatus and process are provided for coating substrates with sublimed or evaporated coating materials. The apparatus and process are particularly suited for producing flexible films having an optical interference coating with a very high surface thickness uniformity an
1. A linear aperture deposition apparatus for coating a substrate, comprising:(a) a source box containing a charge of source material; (b) a heating element within the source box adapted to heat the source material to produce a vapor of the source material; (c) a chimney having at least one inlet in
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