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Methods using electrophoretically deposited patternable material 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C25D-013/00
출원번호 US-0639735 (2000-08-16)
발명자 / 주소
  • Jefferson O. Nemelka
출원인 / 주소
  • Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Mueting, Raasch & Gebhardt, P.A.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 19

초록

Methods for use in the producing of a display include providing a substrate assembly of a face plate of the display including a conductive surface at a first side thereof. One or more projections extend from the first side of substrate assembly. A patternable material is electrophoretically deposite

대표청구항

1. A method for use in the production of a display, the method comprisingproviding a substrate assembly including a conductive surface; providing one or more nonconductive regions formed on the conductive surface, wherein the one or more nonconductive regions have a thickness less than about 15 micr

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Rodriguez Stephen S. (San Jose CA) Harris Martin J. (Leominster MA) Smith Wayne T. (Philadelphia PA), Apparatus and process for electrophoretic deposition.
  2. Browning Jim J. (Boise ID) Lee John K. (Boise ID), Architecture for isolating display grid sections in a field emission display.
  3. Libman Philomena C. (Mt. Prospect IL) Prazak ; III Charles J. (Elmhurst IL), Cataphoretic process for screening color cathode ray tubes.
  4. Watkins Charles M. ; Cathey David A., Display device with grille having getter material.
  5. Emmons William D. (Huntingdon Valley PA) Winkle Mark R. (Lansdale PA), Electrophoretic deposition process.
  6. D\Ottavio Eugene D. (Sudbury MA) Hawkins Robert E. (Northboro MA) Rodriguez Stephen S. (Monument Beach MA) Rychwalski James (Medway MA), Electrophoretic method for applying photoresist to three dimensional circuit board substrate.
  7. Chadha Surjit S. (Meridian ID), Luminescent phosphor and methods relating to production thereof.
  8. Watkins Charles M. (Meridian ID) Chadha Surjit S. (Meridian ID), Manufacturing process for high-purity phosphors having utility in field emission displays.
  9. Stansbury Darryl (Boise ID), Method for aligning and assembling spaced components.
  10. Hofmann Jim (Boise ID) Stansbury Darryl (Boise ID), Method for forming a screen for screen printing a pattern of small closely spaced features onto a substrate.
  11. Cathey ; Jr. David A. (Boise ID) Browing Jim J. (Boise ID), Method for forming spacers for display devices employing reduced pressures.
  12. Akram Salman (Boise ID) Farnworth Warren (Nampa ID) Hembree David R. (Boise ID), Method for making interconnects and semiconductor structures using electrophoretic photoresist deposition.
  13. Fahlen Theodore S. (San Jose CA) Duboc ; Jr. Robert M. (Menlo Park CA) Lovoi Paul A. (Saratoga CA), Method of fabricating flat panel device having internal support structure.
  14. Kiyomiya Tadashi (Saitama JPX) Ohoshi Toshio (Tokyo JPX) Okita Masami (Kanagawa JPX), Method of forming a fluoresecent screen by electrodeposition on a screen panel of a field emission display.
  15. Lowrey Tyler A. (Boise ID) Doan Trung T. (Boise ID) Cathey David A. (Boise ID) Rolfson J. Brett (Boise ID), Method to form high aspect ratio supports (spacers) for field emission display using micro-saw technology.
  16. Rodriguez Stephen S. (Pocasset MA) Hawkins Robert E. (Northboro MA), Process for forming metal images.
  17. Schmid Anthony P. (Solana Beach CA) Spindt Christopher J. (Menlo Park CA) Morris David L. (San Jose CA) Fahlen Theodore S. (San Jose CA) Sun Yu Nan (Sunnyvale CA), Spacer structures for use in flat panel displays and methods for forming same.
  18. Cathey David A. (Boise IA) Yu Chris C. (Boise IA) Doan Trung T. (Boise IA) Lowrey Tyler A. (Boise IA) Rolfson J. Brett (Boise IA), Spacers for field emission display fabricated via self-aligned high energy ablation.
  19. Cathey David A. (Boise ID) Hofmann James J. (Boise ID) Dynka Danny (Boise ID) Stansbury Darryl M. (Boise ID), Spacers for large area displays.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Stein, Nathan D.; Achkire, Younes; Franklin, Timothy J.; Svirchevski, Julia; Marohl, Dan A., Single wafer apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife.
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