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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0654532 (2000-09-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 12 |
The present invention allows optimum filling of void spaces typically found in skutterudite type crystal lattice structures associated with various semiconductor materials. Selective filling provides semiconductor materials which are particularly beneficial for use in fabricating thermoelectric devi
1. A method of preparing a semiconductor compound for use in fabricating thermoelectric elements, the semiconductor compound having a partially filled skutterudite crystal lattice structure comprising:filling a selected portion of normally void subcells by mixing two elements B and A in a selected r
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