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Sonic assisted strengthening of gate oxides 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
출원번호 US-0113594 (1998-07-10)
발명자 / 주소
  • Kang-Jay Hsia
  • George H. Maggard
  • David W. Daniel
출원인 / 주소
  • LSI Logic Corporation
대리인 / 주소
    Carstens, Yee & Cahoon, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 17

초록

A method and apparatus for repairing and improving the endurance characteristics of process damaged oxide film formed in a semiconductor device involving sonic annealing by vibrating or oscillating a wafer at a predetermined frequency, wave amplitude, and duration. A signal from a frequency generato

대표청구항

1. A process for annealing submicron devices comprising the steps of:(a) generating sonic energy; and, (b) directing the sonic energy at a submicron device.

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Yu Chris C. (Irvine CA) Yu Tat-Kwan (Austin TX), Chemical-mechanical-polishing pad cleaning process for use during the fabrication of semiconductor devices.
  2. Sugino Rinshi (Atsugi JPX) Nara Yasuo (Zama JPX) Ito Takashi (Kawasaki JPX), Gettering treatment process.
  3. Schuegraf Klaus F. (Boise ID) Thakur Randhir P. S. (Boise ID) Fazan Pierre C. (Boise ID), High pressure reoxidation anneal of silicon nitride for reduced thermal budget silicon processing.
  4. Schwuttke Guenter H. (Poughkeepsie NY) Yang Kuei-Hsiung (Wappingers Falls NY), Impact sound stressing for semiconductor devices.
  5. Gardner Mark I. (Red Rock TX) Fulford ; Jr. Henry J. (Austin TX), Method for achieving a high quality thin oxide using a sacrificial oxide anneal.
  6. Yeh Ching-Fa (Hsinchu TWX) Fan Tso-Hung (Hsinchu TWX), Method for enhancing the growth rate of a silicon dioxide layer grown by liquid phase deposition.
  7. Miyatake Hisakazu (Nara JPX), Method for forming metallization layer of wiring in semiconductor integrated circuits.
  8. Boitnott Charles (Half Moon Bay CA), Method for processing a semiconductor wafer.
  9. Das, Pankaj K., Method for providing in-situ non-destructive monitoring of semiconductors during laser annealing process.
  10. Dodt Darcy T. (Palo Alto CA) Buchanan Walter R. (San Jose CA), Method of annealing fully-fabricated, radiation damaged semiconductor devices.
  11. Ohsawa Tetu (Sagamihara JPX), Method of heat treating semiconductor wafers by varying the pressure and temperature.
  12. Lisiansky Michael,ILX ; Korchnoy Valentina,ILX, Method of treatment of devices based on semiconductor and dielectric materials.
  13. Manka Charles Keith ; Grun Jacob ; Covington Billy Charles ; Donnelly David William, Non-thermal process for annealing crystalline materials.
  14. Kikuchi Yasushi (Kanagawa JPX), Process for producing information recording medium.
  15. Yau Leopoldo D. (Portland OR) Kawamoto Galen H. (Beaverton OR), Pulsed dual radio frequency CVD process.
  16. Suizu Yasumasa (Tokyo JPX), Rapid thermal annealing for semiconductor substrate by using incoherent light.
  17. Landes James L. (Plano TX), Ultrasonic bond energy monitor.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Dwyer, Kimberly Ann; Daniels, David Wayne; Parker, Brad Alan, Assembly tool for modular implants and associated method.
  2. Dwyer,Kimberly Ann; Daniels,David Wayne; Parker,Brad Alan, Assembly tool for modular implants and associated method.
  3. Jones, Michael C.; Daniels, David W., Assembly tool for modular implants and associated method.
  4. Jones, Michael C.; Daniels, David W., Assembly tool for modular implants and associated method.
  5. Jones, Michael C.; Daniels, David W.; Emenhiser, John D., Assembly tool for modular implants, kit and associated method.
  6. Jones, Michael C.; Daniels, David W.; Emenhiser, John D., Assembly tool for modular implants, kit and associated method.
  7. Huff, Daniel N.; McAnelly, Jeffrey A.; Penley, Lauren E.; Satterthwaite, Rodney E., Disassembly tool.
  8. Huff, Daniel; McAnelly, Jeffrey A.; Penley, Lauren E.; Satterthwaite, Rodney E., Disassembly tool.
  9. Carr, Jonathan E.; Hood, Megan A.; McCleary, Larry G.; Fortin, Michael J., Distal reamer for use during an orthopaedic surgical procedure to implant a revision hip prosthesis.
  10. McCleary, Larry G.; Carr, Jonathan E.; Gheevarughese, Vineetha S., Finishing RASP and orthopaedic surgical procedure for using the same to implant a revision hip prosthesis.
  11. McCleary, Larry G.; Carr, Jonathan E.; Rhoades, Joel C.; Daniels, David W., Modular taper assembly device.
  12. McCleary, Larry G; Carr, Jonathan E; Rhoades, Joel C; Daniels, David W, Modular taper assembly device.
  13. Carr, Jonathan E.; Lashure, Daniel E.; McCleary, Larry G.; Muhammad, William; Fortin, Michael J.; Satterthwaite, Rodney E., Orthopaedic surgical procedure for implanting a revision hip prosthesis.
  14. Hood, Megan A.; Carr, Jonathan E.; Satterthwaite, Rodney E.; Furbee, Rebecca M.; Muhammad, William, Revision hip prosthesis having an implantable distal stem component.
  15. McAnelly, Jeffrey A.; Satterthwaite, Rodney E.; Lashure, Daniel E., Spiral assembly tool.
  16. McAnelly, Jeffrey A; Satterthwaite, Rodney E.; Lashure, Daniel E., Spiral assembly tool.
  17. Leisinger, Steven R, Taper disengagement tool.
  18. Satterthwaite, Rodney E.; Muhammad, William; Carr, Jonathan E., Version-replicating instrument and orthopaedic surgical procedure for using the same to implant a revision hip prosthesis.
  19. Satterthwaite, Rodney E.; Muhammad, William; Carr, Jonathan E., Version-replicating instrument and orthopaedic surgical procedure for using the same to implant a revision hip prosthesis.
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