[특허]Method of rinsing and drying semiconductor wafers in a chamber with a movable side wall

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Method of rinsing and drying semiconductor wafers in a chamber with a movable side wall 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-003/00
출원번호	US-0652273 (2000-08-31)
발명자 / 주소	Barry K. Florez
출원인 / 주소	Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소	Traskbritt
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 18

초록 ▼

A method for rinsing and drying semiconductor wafers. The method includes placing a semiconductor wafer into a chamber of a rinse/dry apparatus, directing rinse liquid over the semiconductor wafer, and moving a portion of the chamber, such as a portion of a wall of the chamber, substantially vertically relative to the remainder of the chamber to remove rinse liquid therefrom. The method may also include directing a drying fluid onto a surface of the rinse liquid to facilitate drying of the rinsed semiconductor wafers as rinse liquid is being removed from the chamber.

대표청구항 ▼

1. A method for cleaning a semiconductor substrate, comprising:disposing the semiconductor substrate into a chamber; introducing rinse liquid onto a surface of the semiconductor substrate; and moving at least a portion of said chamber substantially vertically relative to the semiconductor substrate

이 특허에 인용된 특허 (18)

Han Suk-Bin,KRX, Apparatus for cleansing semiconductor wafer.
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Aigo Seiichiro (3-15-13 Negishi ; Daito-ku ; Tokyo JPX), Apparatus for washing semiconductor materials.
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Guilleux Eugene (Villebon sur Yvette FRX), Device for regulating the flow of a fluid.
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Fujikawa Kazonori (Shiga JPX) Tanaka Masato (Shiga JPX) Muraoka Yusuke (Kyoto JPX), Device for rinsing and drying substrate.
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Dexter Jeffrey L. (Evansville IN) Siemers David C. (Evansville IN) Head Larry J. (Evansville IN), Flatline method of drying wafers.
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Aoki Hidemitsu (Tokyo JPX) Nakamori Masaharu (Tokyo JPX) Yamanaka Koji (Saitama JPX) Imaoka Takashi (Saitama JPX) Futatsuki Takashi (Saitama JPX) Yamashita Yukinari (Saitama JPX), Method and apparatus for cleaning electronic parts.
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Ferrell Gary W. (608 Terrace Ave. Half Moon Bay CA 94019), Method and apparatus for drying parts and microelectronic components using sonic created mist.
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Mohindra Raj (Los Altos Hills CA) Bhushan Abhay (Palo Alto CA) Bhushan Rajiv (Mountain View CA) Puri Suraj (Los Altos CA) Anderson John H. (Milpitas CA) Nowell Jeffrey (San Francisco CA), Method for cleaning and drying a semiconductor wafer.
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Hayami Yuka (Kawasaki JPX) Kobayashi Masanori (Kawasaki JPX) Yamazaki Ken (Kawasaki JPX), Method for rinsing plate-shaped articles.
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Florez Barry K., Method of rinsing and drying semiconductor wafers in a chamber with a movable side wall.
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Florez Barry K., Method of rinsing and drying semiconductor wafers in a chamber with a movable side wall.
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Bisby William G., Paint roller cleaning apparatus.
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Yonemizu Akira,JPX ; Kudou Hiroyuki,JPX ; Akimoto Masami,JPX, Processing apparatus for target processing substrate.
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Thompson Raymon F. (Kalispell MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Rinser dryer system.
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Olesen Michael B. (Yorba Linda CA) Bran Mario E. (Garden Grove CA), Semiconductor wafer cleaning system.
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Mohindra Raj (Los Altos Hills CA) Bhushan Abhay (Palo Alto CA) Bhushan Rajiv (Mountain View CA) Puri Suraj (Los Altos CA) Anderson ; Sr. John H. (Milpitas CA) Nowell Jeffrey (San Francisco CA), Ultra-low particle semiconductor method.
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Roberson ; Jr. Glenn A. (Hollister CA) Eglinton Robert B. (Montery CA), Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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