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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0559153 (2000-04-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 18 |
The present invention relates to field emitters and methods of fabricating the same wherein the field emission tips of the field emitters are formed by utilization of a facet etch. An etch mask is patterned on a conductive substrate in the locations desired for subsequently formed field emission tip
1. A method for fabricating a tip of a field emission array, comprising: forming a structure with substantially vertical sidewalls, an upper surface, and at least one cornerat an edge of said upper surface, said structure comprising at least one of semiconductive material and conductive material; an
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