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Integrated laser cleaning and inspection system for rigid thin film media for magnetic recording application 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-007/04
  • B23K-026/04
출원번호 US-0272184 (1999-03-18)
발명자 / 주소
  • Istvan McClain Boszormenyi
  • Amber Sharma
  • Rajiv Y. Ranjan
출원인 / 주소
  • Seagate Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Merchant & Gould
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 9

초록

Cleaning and inspecting a surface of the substrate comprises subjecting the surface to the output of a laser source for applying a cleaning energy to the surface and thereby remove contaminants on the surface. The laser source is used for inspecting the surface being cleaned and to measure the effec

대표청구항

1. Apparatus for cleaning and inspecting a surface of a substrate comprising: a laser source for subjecting the surface to an output of the laser source to thereby apply a cleaning energy to the surface and remove contaminants on the surface; and means for inspecting with the output of the laser so

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Valliant James G. (Bozeman MT) Goebel David G. (El Cajon CA), Apparatus and method for dynamic measurement of surface roughness.
  2. Castonguay Raymond J. (Tucson AZ), Apparatus and method of rapidly measuring hemispherical scattered or radiated light.
  3. Shaanan Gad (Montreal CAX), Brewer.
  4. Hunter ; Jr. Robert O. (Rancho Santa Fe CA) McArthur Bruce B. (San Diego CA) Smith Adlai H. (San Diego CA), Laser ablation control system and method.
  5. Stover John C. (Bozeman) Bender James A. (Bozeman) Bernt Marvin L. (Bozeman) Bjork Donald R. (Bozeman) Chauss Paul D. (Bozeman) Cheever Daniel R. (Bozeman) Kirchner Kelly H. (Bozeman) Schiff Tod F. (, Modular scatterometer with interchangeable scanning heads.
  6. Womack Kenneth ; Butler L. Allan ; Wahl Michael, Non-contact optical glide tester.
  7. Engelsberg Audrey C. (61-B Sherwood Forest Wappingers Falls NY 12590), Removal of surface contaminants by irradiation from a high-energy source.
  8. Anthon Erik W. (Santa Rosa CA), Scattermeter using polarized light to distinguish between bulk and surface scatter.
  9. Meeks Steven W. ; Kudinar Rusmin ; Soetarman Ronny, System and method for simultaneously measuring lubricant thickness and degradation, thin film thickness and wear, and surface roughness.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Yu, Cheng-Hung, Apparatus for on-line cleaning a wafer chuck with laser.
  2. Krishnan,Shankar, Concurrent measurement and cleaning of thin films on silicon-on-insulator (SOI).
  3. Hemker,David J.; Boyd,John M., Method for performing site-specific backside particle and contamination removal.
  4. Elliott, David J.; Millman, Jr., Ronald P.; Tardif, Murray; Aiello, Krista, Method for surface cleaning.
  5. Koba,Hryhory T.; Hoikka,Gary L.; Schanil,Derek J.; Holaway,Brett T., Method of laser cleaning surfaces on a head suspension.
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