[특허]Antireflection film and optical element coated with the antireflection film

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Antireflection film and optical element coated with the antireflection film 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F21V-009/04
출원번호	US-0654040 (2000-09-01)
우선권정보	JP-0248156 (1999-09-02)
발명자 / 주소	Minoru Otani JP Kenji Ando JP Yasuyuki Suzuki JP Ryuji Biro JP Hidehiro Kanazawa JP
출원인 / 주소	Canon Kabushiki Kaisha JP
대리인 / 주소	Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
인용정보	피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 2

초록 ▼

The antireflection film of the present invention comprises an alternately multi-layered film of 10 layers formed on a base member and having antireflection characteristics in two wavelength regions including a first wavelength (.lambda.1) of 248 nm and a second wavelength (.lambda.2) of 633 nm as central wavelengths, respectively, the multi-layered film of 10 layers comprising: low-refractive index layers arranged at odd-numbered positions from a side opposite to the base member and having a refractive index of 1.45 to 1.52 at the first wavelength (.lambda.1); and high-refractive index layers arranged at even-numbered positions from the side opposite to the base member and having a refractive index of 1.65 to 1.80 at the first wavelength (.lambda.1), wherein layers arranged at the first, second and third positions from the side opposite to the base member each have an optical thickness ranging from 0.21.lambda.1 to 0.28.lambda.1.

대표청구항 ▼

1. An antireflection film comprising an alternately multi-layered film of 10 layers formed on a base member and having antireflection characteristics in two wavelength regions including a first wavelength (.lambda.1) of 248 nm and a second wavelength (.lambda.2) of 633 nm as central wavelengths, respectively, the multi-layered film of 10 layers comprising: low-refractive index layers arranged at odd-numbered positions from a side opposite side to the base member and having a refractive index of 1.45 to 1.52 at the first wavelength (.lambda.1); and high-refractive index layers arranged at even-numbered positions from the side opposite to the base member and having a refractive index of 1.65 to 1.80 at the first wavelength (.lambda.1), wherein layers arranged at the first, second and third positions from the side opposite to the base member each have an optical thickness ranging from 0.21.lambda.1 to 0.28.lambda.1.

이 특허에 인용된 특허 (2)

Otani Minoru,JPX ; Ando Kenji,JPX ; Suzuki Yasuyuki,JPX ; Biro Ryuji,JPX ; Kanazawa Hidehiro,JPX, Anti-reflection film and optical system using the same.
상세보기
Biro Ryuji (Kawasaki JPX) Ando Kenji (Kawasaki JPX) Suzuki Yasuyuki (Yokohama JPX), Antireflection film and exposure apparatus using the same.
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이 특허를 인용한 특허 (6)

Paul, Hans-Jochen; Heller, Matthias, Antireflection coating for ultraviolet light.
상세보기
Kanazawa, Hidehiro; Ando, Kenji; Teranishi, Koji, Antireflection film and optical element having the same.
상세보기
Kanazawa,Hidehiro; Ando,Kenji; Teranishi,Koji, Antireflection film and optical element having the same.
상세보기
Eisenkr채mer,Frank, Inspection microscope for several wavelength ranges and reflection reducing layer for an inspection microscope for several wavelength ranges.
상세보기
Kanazawa,Hidehiro; Ando,Kenji; Teranishi,Koji, Optical element with antireflection film.
상세보기
Andressen, Clarence C.; Anderson, Robert C., Transparent silicon detector and multimode seeker using the detector.
상세보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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