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Highly purified titanium material, method for preparation of it and sputtering target using it

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-023/48
  • H01L-023/52
  • H01L-029/40
출원번호 US-0280653 (1999-03-29)
우선권정보 JP-0181877 (1989-07-14)
발명자 / 주소
  • Takashi Ishigami JP
  • Mituo Kawai JP
  • Noriaki Yagi JP
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toshiba JP
대리인 / 주소
    Foley & Lardner
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 13

초록

The crude Ti particles prepared by molten salt electrolysis or Iodide method are classified into each particle diameter according to contents of impurities, and the crude Ti particles having a desired particle diameter are selected from the crude Ti particles classified depending on each particle di

대표청구항

1. A semiconductor device, comprising:a semiconductor body including at least one electrical circuit component formed in said semiconductor body; electrode pads formed on said semiconductor body; and a wiring for connecting between said electrical circuit component and electrode pads, wherein at lea

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Attard Peter M. (Elk Grove Village IL) Espinoza Therese A. (Wood Dale IL), Clay-free, asbestos-free and glass microbubble-free drying type joint compounds.
  2. Shimotori Kazumi (Kawasaki JPX) Ochi Yoshiharu (Ichihara JPX) Ishihara Hideo (Yokohama JPX) Umeki Takenori (Yokohama JPX) Ishigami Takashi (Chigasaki JPX), Highly pure titanium.
  3. Shimotori Kazumi (Kawasaki JPX) Ochi Yoshiharu (Ichihara JPX) Ishihara Hideo (Yokohama JPX) Umeki Takenori (Yokohama JPX) Ishigami Takashi (Chigasaki JPX), Highly pure titanium and process for producing the same.
  4. Ishigami Takashi (Yokohama) Kawai Mituo (Yokohama) Yagi Noriaki (Yokohama JPX), Highly purified titanium material and its named article, a sputtering target.
  5. Thoma, Martin, Method for recognizing structural inhomogeneities in titanium alloy test samples including welded samples.
  6. Stephan Herbert (Bruchkbel DEX) Aichert Hans (Hanau am Main DEX) Heimerl Joseph (Altenhsslau DEX), Method for the production of high-purity metal powder by means of electron beam heating.
  7. Dresty ; Jr. John E. (Glastonbury CT) Klein Eugene M. (West Hartford CT), Process and apparatus for treating titanium machining scrap.
  8. Bianchi Leonard M. (5330 Taylor Mill Rd. Taylor Mill KY 41015), Process for improving high-temperature alloys.
  9. Hard Robert A. (Laguna CA) Megy Joseph A. (Mission Viejo CA), Process for making titanium, zirconium and hafnium-based metal particles for powder metallurgy.
  10. Oikawa Hideo (Atsugi JPX) Amazawa Takao (Atsugi JPX) Honma Nakahachiro (Musashino JPX) Miyazaki Hideo (Toda JPX) Kyono Iwao (Toda JPX) Mori Nobuyuki (Tokyo JPX) Katoh Yoshiharu (Toda JPX) Kuroki Masa, Process for producing high-purity metal targets for LSI electrodes.
  11. Armand, Marcel, Process for the preparation of titanium by electrolysis.
  12. Bania Paul J. (Boulder City NV), Production of titanium articles that are free from low density inclusions.
  13. Curtin Daniel J. (Danville CA), Reduction of the fouling potential of high sodium coal.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Nakashima, Nobuaki; Sano, Takashi, Sputtering target, manufacturing method thereof, and manufacturing method of semiconductor element.
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