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Filter unit and solution treatment unit 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-019/00
출원번호 US-0694981 (2000-10-24)
우선권정보 JP-0304362 (1999-10-26)
발명자 / 주소
  • Yuji Matsuyama JP
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited JP
대리인 / 주소
    Rader, Fishman & Grauer, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 13

초록

Nitrogen gas is blown into a developing solution tank, and a developing solution is supplied through a supply nozzle to the surface of a wafer, through a filter unit or the like, with the pressure. The filter unit has a ring-shaped flow path flowing from down upward, an impurity filter provided on t

대표청구항

1. A filter unit for removing impurities and bubbles from a treatment solution comprising:a flow path for flowing said treatment solution; an impurity filter provided in said flow path, for removing impurities from said treatment solution; an exhaust passage for exhausting gas from said flow path to

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Bryan Michael,GBX ; Pearson Idwal V.,GBX, Debubbling apparatus.
  2. van Schravendijk Bart J. (Sunnyvale CA) Burkhart Christopher W. (San Jose CA) Santiago Tito H. (San Mateo CA) Pomeroy Charles E. (Santa Clara CA) Lind Jeffrey W. (Santa Cruz CA), Device for removing dissolved gas from a liquid.
  3. Peng Ray,TWX ; Liu T. Y.,TWX ; Lin Y. F.,TWX ; Wang R. C.,TWX, Method and apparatus for delivering and recycling a bubble-free liquid chemical.
  4. Wang Wen-Shyan,TWX ; Lu Shih-Hung,TWX, Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line.
  5. Hung Cheng-chieh,TWX ; Wen Ming-chien,TWX ; Chuang Mao-sheng,TWX, Method and apparatus for eliminating trapped air from a liquid flow.
  6. Huang Cheng H.,TWX ; Wang Ray C.,TWX ; Liu Teh Y.,TWX ; Chao Cheng H.,TWX, Method and apparatus for recovering process liquid and eliminating trapped air.
  7. Chung W. J.,TWX ; Lin C. F.,TWX, Method for wetting a filter element.
  8. Tateyama Kiyohisa,JPX ; Motoda Kimio,JPX ; Sekiguchi Kenji,JPX ; Omori Tsutae,JPX, Method of forming a coating film and coating apparatus.
  9. Yamauchi Shingo (Kanagawa JPX) Takagi Yoshikatsu (Kanagawa JPX), Method of removing air bubbles in a coating path before feeding a coating liquid.
  10. Do Dac-Vong (Langen DEX), Process and apparatus for degassing and filtering liquids.
  11. Borzio John ; Jacksier Tracey, Purification of electronic specialty gases by vapor phase transfilling.
  12. Hasebe Keizo,JPX ; Iino Hiroyuki,JPX ; Semba Norio,JPX ; Kimura Yoshio,JPX, Resist processing apparatus.
  13. Yoo Seung-Seok,KRX, Viscous fluid discharging apparatus for manufacturing semiconductors having a removable bubble capturing portion.

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Hirayama, Toshikazu; Ueno, Daisuke, Air trap for liquid circulation line.
  2. Usher,Kathryn M.; Foster,George R.; Kolvek,Edward M.; Harvey,Andrew C.; Taylor,Malcolm E.; Lovell,Thomas Williams; Hart,Colin P.; Girzone,William Edmund, Apparatus and method for removing gasses from a liquid.
  3. Jang,Sung Kun, Apparatus and method of dispensing photosensitive solution in semiconductor device fabrication equipment.
  4. Park, Jin Jun; Yun, Suk Fill, Apparatus for dispensing photo-resist in semiconductor device fabrication equipment.
  5. Kimura, Yoshio, Buffer tank, intermediate accumulation apparatus, liquid treatment apparatus, and supplying method of treating liquid.
  6. Schmidt, Mark; Broman, Robert E., Fluid storage reservoir with flow dynamic fluid management and hydronucleation.
  7. Iwata, Yuji, Liquid droplet discharge apparatus, liquid supply device thereof, electro-optical device, and electronic apparatus.
  8. Nishimura, Hironobu; Nakamura, Masahiro, Liquid material supplying apparatus and liquid material supplying method.
  9. Zahka, Joseph; Wu, Aiwen, Method and apparatus for treating fluids to reduce microbubbles.
  10. Zahka, Joseph; Wu, Aiwen, Method and apparatus for treating fluids to reduce microbubbles.
  11. Jacobson, Guy, Method for using acoustic waves for purging filters in semiconductor manufacturing equipment.
  12. Vesper,Christian; Yu,Ying; Peters,Ralf Peter; Stoeters,Wolfgang, Process and device for separating and exhausting gas bubbles from liquids.
  13. Yoshida, Yuichi; Naitou, Ryouichirou; Furusho, Toshinobu, Processing liquid supply method, processing liquid supply apparatus and storage medium.
  14. Yoshida, Yuichi; Naitou, Ryouichirou; Furusho, Toshinobu, Processing liquid supply method, processing liquid supply apparatus and storage medium.
  15. Shite, Hideo; Kimura, Kazuhiko; Yumoto, Tomoyuki, Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus.
  16. Jacobson, Guy, Use of acoustic waves for purging filters in semiconductor manufacturing equipment.
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