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Use of a chemically active reticle carrier for photomask etching 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05H-001/00
  • C23C-016/00
출원번호 US-0903559 (2001-07-13)
발명자 / 주소
  • Richard Stocks
  • Kevin Donohoe
출원인 / 주소
  • Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Dickstein Shapiro Morin & Oshinsky LLP
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 22

초록 ▼

A method and apparatus for improving etch uniformity in reticle etching by eliminating local effects at the edge of the reticle is disclosed. The present invention relates to a reticle frame which surrounds the reticle. The reticle frames are patterned with a pattern profile similar to that of the r

대표청구항 ▼

1. A patterned frame for holding a reticle to be plasma etched comprising;a body; an opening formed in said body for receiving a reticle therein such that the outer sides of the reticle are adjacent to the inner sides defining said opening of said frame; a holding member formed in a lower portion of

이 특허에 인용된 특허 (22)

  1. Ina Hideki (Kawasaki JPX) Kosugi Masao (Yokohama JPX) Suzuki Akiyoshi (Tokyo JPX), Alignment and exposure apparatus.
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  2. Kirkpatrick, John, Apparatus and method for securely carrying a substrate.
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  3. Rolfson J. Brett, Atom lithographic mask having diffraction grating aligned with primary mask pattern.
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  4. Wagner, Alfred, Correction of lithographic masks.
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  5. Moto Atsushi,JPX ; Suzuki Shinji,JPX, Heating device of the light irradiation type and holding device therefor.
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  6. Ellis Ernest W., Mass transfer imaging media and methods of making and using the same.
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  7. Baker Faye D. ; Brown Jeffrey S. ; Gauthier ; Jr. Robert J. ; Holmes Steven J. ; Leidy Robert K. ; Nowak Edward J. ; Voldman Steven H., Method and structure to reduce latch-up using edge implants.
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  8. Scott David B. (Plano TX), Method for fabricating high density DRAM reticles.
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  9. Hashimoto Kazuhiko (Osaka JPX) Endo Masayuki (Osaka JPX) Sasago Masaru (Osaka JPX), Method of producing a stencil mask.
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  10. Lucas Kevin ; Kling Michael E. ; Roman Bernard J. ; Reich Alfred J., Methods of designing a reticle and forming a semiconductor device therewith.
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  11. Schinella Richard (Saratoga CA) Chao Keith (San Jose CA), Optical corrective techniques with reticle formation and reticle stitching to provide design flexibility.
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  12. Tanaka Shouji,JPX ; Nakajima Masao,JPX ; Toma Toshichika,JPX, Peripheral edge exposure method.
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  13. Bae Sang Man,KRX, Phase shift mask and method for fabricating the same.
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  14. Kalbitzer Siegfried (Heidelberg DEX), Photo-mask with regions having a differing optical transmissivities.
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  15. Jang Syun-Ming,TWX ; Chang Jui-Yu,TWX ; Yu Chen-Hua,TWX ; Chang Chung-Long,TWX ; Shih Tsu,TWX ; Chen Jeng-Horng,TWX, Prevention of die loss to chemical mechanical polishing.
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  16. Lucas Kevin D. ; Kling Michael E. ; Reich Alfred J. ; Fu Chong-Cheng ; Morrow James, Process for producing and inspecting a lithographic reticle and fabricating semiconductor devices using same.
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  17. Nakazato Hiroshi (Ohme JPX) Iijima Mamoru (Yokohama JPX), Reticle cassette.
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  18. Laganza Joseph ; Yap Hoon-Yeng ; Cruz Teodorico A. ; Magnussen Erik ; Dunning Craig S., Reticle container with corner holding.
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  19. Kim Sung-wook,KRX, Reticle pre-alignment apparatus and method thereof.
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  20. Yamauchi Takashi (Tokyo JPX), Substrate holding case.
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  21. Sato Yuusuke (Tokyo JPX) Ohmine Toshimitsu (Tokyo JPX), Vapor-phase deposition apparatus and vapor-phase deposition method.
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  22. Sato Yuusuke (Tokyo JPX) Ohmine Toshimitsu (Tokyo JPX), Vapor-phase deposition apparatus and vapor-phase deposition method.
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이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Chen, Xiaoyi; Grimbergen, Michael; Chandrachood, Madhavi; Tran, Jeffrey X.; Kumar, Ajay; Tam, Simon; Krishnamurthy, Ramesh, Method for plasma etching a chromium layer suitable for photomask fabrication.
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  2. Chandrachood, Madhavi R.; Sandlin, Nicole; Lee, Yung-Hee Yvette; Ding, Jian, Process for etching a metal layer suitable for use in photomask fabrication.
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  3. Chandrachood, Madhavi R.; Sandlin, Nicole; Lee, Yung-Hee Yvette; Ding, Jian, Process for etching a metal layer suitable for use in photomask fabrication.
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  4. Chandrachood, Madhavi R.; Sandlin, Nicole; Lee, Yung Hee Yvette; Ding, Jian, Process for etching photomasks.
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