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Coating film formation apparatus and aging process apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0431282 (1999-11-01)
우선권정보 JP-0313117 (1998-11-04)
발명자 / 주소
  • Koji Sakai JP
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited JP
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 3

초록

An apparatus for forming a coating film, comprises a coating unit for coating a sol containing dielectric particles and a first solvent on a substrate, an aging unit for changing a sol-state coating film formed on the substrate in the coating unit to a gel state, and a solvent exchange unit for appl

대표청구항

1. An apparatus for forming a coating film, comprising:a coating unit for coating a sol containing dielectric particles and a first solvent on a substrate; an aging unit for changing a sol-state coating film formed on the substrate in the coating unit to a gel state; and a solvent exchange unit for

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Gnade Bruce E. (Dallas TX) Cho Chih-Chen (Richardson TX) Smith Douglas M. (Albuquerque NM), Method of making a semiconductor device using a low dielectric constant material.
  2. Ohmori Toshiaki (Itami JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX), Semiconductor manufacturing apparatus.
  3. Stokes Kenneth B. (Brooklyn Park MN) Comben Richard H. (St. Paul MN), Tool-less threaded connector assembly.

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Gerbi,Jason T.; Crabtree,Mark J., Adhesion promotion vacuum monitoring system for photo resist coaters.
  2. Huang, Kuo-Chen; Chen, Chang-Shing; Ho, Hsin-Yi, Exhaust monitoring cup.
  3. Nishibayashi, Takahiro, Film forming apparatus and film forming method.
  4. Takeshita, Kazuhiro; Nagashima, Shinji; Mizutani, Yoji; Katayama, Kyoshige, Gas treatment apparatus.
  5. Takeshita, Kazuhiro; Nagashima, Shinji; Mizutani, Yoji; Katayama, Kyoshige, Gas treatment apparatus.
  6. Kubota, Minoru; Yoshihara, Kousuke; Tachibana, Kouzou, Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium for liquid processing.
  7. Deguchi, Masatoshi; Sekimoto, Eiichi; Asaka, Koichi; Matsuyama, Yuji, Method and apparatus for heat processing of substrate.
  8. Mravyan, David; Popovic, Milos; Mravyan, Michael, Monitoring system for pressure sore prevention.
  9. Toshima, Takayuki; Omori, Tsutae; Yamashita, Masami, Silylation treatment unit and method.
  10. Toshima, Takayuki; Omori, Tsutae; Yamashita, Masami, Silylation treatment unit and method.
  11. Izumoto, Kenji; Shibayama, Nobuyuki, Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate.
  12. Shibayama, Nobuyuki, Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate.
  13. Fovell, Richard; Brillhart, Paul; Yi, Sang In; Khan, Anisul H.; Dinev, Jivko; Nevil, Shane, Substrate support temperature control.
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