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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0547986 (2000-04-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 36 |
A plasma sputtering system that may be used to deposit a film on a substrate such as an optical disk is disclosed. In one embodiment, the sputtering system includes a main vacuum chamber. A plurality of sputtering chambers and a load lock chamber are connected to the main vacuum chamber. An assembly
1. A tray for supporting a substrate in a sputtering system, said tray comprising:a body having a first side upon which the substrate is to be horizontally disposed during sputtering, an opposite second side, a circumferential vertically-extending portion beginning at the first side of the tray, and
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