[특허]Process chamber assembly with reflective hot plate and pivoting lid

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Process chamber assembly with reflective hot plate and pivoting lid 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F27D-001/18
출원번호	US-0593270 (2000-06-13)
발명자 / 주소	Jae Yun Lee Lovell C. Chase, III
출원인 / 주소	Silicon Valley Group, Inc.
대리인 / 주소	Wilson, Sonsini Goodrich & Rosati
인용정보	피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 7

초록 ▼

A hot plate assembly includes a base plate, a lid and a housing positioned between the base plate and the lid. The housing, lid and base plate form a process chamber. An insulator is positioned adjacent to the base plate in the process chamber. An air gap is formed at least partially between a bottom surface of the insulator and a top surface of the base plate. A hot plate is positioned adjacent to the insulator in the process chamber. At least a first reflective member is positioned between the hot plate and the insulator.

대표청구항 ▼

1. A hot plate assembly, comprising:a base plate; a lid; a housing positioned between the base plate and the lid, the housing lid and base plate forming a process chamber; an insulator positioned adjacent to the base plate in the process chamber with an air gap formed at least partially between a bottom surface of the insulator and a top surface of the base plate; a hot plate positioned adjacent to the insulator in the process chamber; and at least a first reflective member positioned between the hot plate and the insulator.

이 특허에 인용된 특허 (7)

Takamori Hideyuki (Kumamoto JPX) Satoh Takami (Kumamoto JPX), Heat treatment device.
상세보기
Arami Junichi,JPX ; Ishikawa Kenji,JPX ; Ushikawa Harunori,JPX ; Yanagisawa Isao,JPX ; Kawada Nobuo,JPX ; Mogi Hiroshi,JPX, Heating device, method of manufacturing the same, and processing apparatus using the same.
상세보기
Kannan Chak D. ; Weber Adam Jerome, Hot plate oven for processing flat panel displays and large wafers.
상세보기
White John M. ; Blonigan Wendell T. ; Richter Michael W., Multi-function chamber for a substrate processing system.
상세보기
Grim Karen A. (Reading PA) Singh Shobha (Summit NJ) Van Uitert LeGrand G. (Morristown NJ) Zydzik George J. (Columbia NJ), Procedure for rapid thermal annealing of implanted semiconductors.
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Strodtbeck Timothy A. ; Molebash John S. ; Hayes Bruce L. ; Smith Rex A. ; Davis Shawn D., Thermal conditioning apparatus.
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Ichishima Masahiko,JPX ; Toya Eiichi,JPX ; Ohashi Tadashi,JPX ; Shimada Masaki,JPX ; Mitani Shinichi,JPX ; Honda Takaaki,JPX, Vapor phase growth apparatus.
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이 특허를 인용한 특허 (5)

Mandal, Robert P., Integrally formed bake plate unit for use in wafer fabrication system.
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Zieger, Claus Dieter; Zieger, Niclas Henning; Buzzi, Guenther, Multiple proportion delivery systems and methods.
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Lee,Jin sung; Lee,Dong woo; Kim,Tae gyu; Park,Tae sang; Lee,Bang weon; Lim,Jong kill; Jung,Chang hoon; Wee,Sang kwon, Semiconductor wafer baking apparatus.
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Nguyen, Vuong P.; Sims, Richard E.; Zhu, Xiaoguang, Thermal process station with heated lid.
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Aldridge,David M.; Mitchell,Lonnie D.; Roedig,Joseph L., Wafer scale thermal stress fixture and method.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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