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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0164178 (1998-09-30) |
우선권정보 | DE-0043390 (1997-09-30); DE-0004308 (1998-02-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 6 |
In a thin-walled profile with profile variation using anisotropisms due to the material or the structure, the anisotropisms due to the material or the structure are arranged locally in the profile to produce specific changes in the contour.
1. A thin-walled profile with profile variation using a material anisotropism comprising:a material anisotropism arranged locally in the profile to produce specific changes in the contour.
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