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Endpoint detection by chemical reaction 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23F-001/02
출원번호 US-0678633 (2000-10-03)
발명자 / 주소
  • Leping Li
  • James Albert Gilhooly
  • Clifford Owen Morgan, III
  • Cong Wei
  • Chienfan Yu
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation
대리인 / 주소
    Jay H. Anderson
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 28

초록

Detection of the endpoint for removal of a target film overlying a stopping film by removing the target film with a process that selectively generates a chemical reaction product (for example, ammonia when polishing a wafer with a nitride film in a slurry containing KOH) with either the target or st

대표청구항

1. An apparatus for detecting the endpoint for removal of a target film overlying a stopping film by a process that generates a chemical reaction product with the stopping film, comprising:a monitor for monitoring the level of chemical reaction product as the target film is removed, wherein the proc

이 특허에 인용된 특허 (28)

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