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Photolithography system including a SMIF pod and reticle library cassette designed for ESD protection 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/52
  • G03B-027/42
출원번호 US-0504006 (2000-02-14)
발명자 / 주소
  • Lewis Lynn Armentrout
출원인 / 주소
  • Advanced Micro Devices, Inc.
대리인 / 주소
    Kevin L. Daffer
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 8

초록

A lithography system including a reticle carrier and reticle library cassette designed for electro-static discharge (ESD) protection. A reticle carrier, such as a SMIF (Standard Mechanical Interface) pod, and reticle library cassette are fabricated largely of electrically conductive materials. Such

대표청구항

1. A reticle carrier comprising:a container portion having rounded edges and corners, said container portion fabricated from an electrically conductive material, wherein said container portion is configured to enclose a reticle library cassette containing a plurality of photolithography reticles, wh

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Maney George A. (Palo Alto CA) Faraco W. George (Saratoga CA) Parikh Mihir (San Jose CA), Box door actuated retainer.
  2. Nakahara Kanefumi,JPX ; Orikasa Tsuneaki,JPX, Case for housing a substrate.
  3. Parikh Mihir (San Jose CA) Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Faraco W. George (Saratoga CA) Huang Barney H. (Sunnyvale CA), Container having disposable liners.
  4. Li Meng Chun,TWX, Electrostatic discharge-free container for insulating articles.
  5. Miyaji Akira (Tokyo JPX) Ikeda Masatoshi (Tokyo JPX), Exposure apparatus.
  6. Nakahara Kanefumi (Yokohama JPX) Nakajima Masao (Yokohama JPX) Tsuruya Toshinori (Kawasaki JPX), Exposure apparatus.
  7. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Wartenbergh Robert P. (Woodside CA) Jain Sudhir (Fremont CA) Davis Mark R. (Mountain View CA), Sealable transportable container having improved liner.
  8. Bonora Anthony C. ; Fosnight William J., Sealable, transportable container adapted for horizontal loading and unloading.

이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Opansky,Brian Joseph; Boone,Wayne, ESD safe vacuum wand tip.
  2. Levit, Lawrence B.; Ignatenko, Alexander, Electrostatic charge measurement on semiconductor wafers.
  3. Ramamoorthy,Arun; Bristol,Robert, In-tool and out-of-tool protection of extreme ultraviolet (EUV) reticles.
  4. Dai, Yi-Ming, Method and apparatus for solving mask precipitated defect issue.
  5. Kuo, Kuei Chi, Method and structure for electrostatic discharge protection of photomasks.
  6. Kuo,Kuei Chi, Method and structure for electrostatic discharge protection of photomasks.
  7. Rolfson, J. Brett, Methods of fabricating reticles with subdivided blocking regions.
  8. Rider, Gavin Charles; Durben, Joseph A.; Lindsley, Robert K., Reduction of electric-field-induced damage in field-sensitive articles.
  9. Cheng, Lin, Reticle box transport cart.
  10. Kolbow, Steven P.; McMullen, Kevin; Tieben, Anthony M.; Kusz, Matthew; Halbmaier, David L.; Lystad, John, Reticle pod.
  11. Rolfson, J. Brett, Reticles with subdivided blocking regions.
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