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특허 상세정보

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Photolithography system including a SMIF pod and reticle library cassette designed for ESD protection

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) G03B-027/52    G03B-027/42   
미국특허분류(USC) 355/075; 355/053; 206/709; 206/719; 414/935
출원번호 US-0504006 (2000-02-14)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Kevin L. Daffer
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 8
초록
▼

A lithography system including a reticle carrier and reticle library cassette designed for electro-static discharge (ESD) protection. A reticle carrier, such as a SMIF (Standard Mechanical Interface) pod, and reticle library cassette are fabricated largely of electrically conductive materials. Such materials may include polycarbonate plastic impregnated with carbon fibers or an electrically conductive stainless steel. The electrically conductive materials used to fabricate the reticle carrier and reticle library cassette may allow static electrical charg...

대표
청구항
▼

1. A reticle carrier comprising:a container portion having rounded edges and corners, said container portion fabricated from an electrically conductive material, wherein said container portion is configured to enclose a reticle library cassette containing a plurality of photolithography reticles, wherein said reticles are secured within said library cassette with a plurality of springs, and wherein said plurality of springs are configured to apply a force to inner walls of said container portion to secure said reticles within said reticle library cassett...

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Maney George A. (Palo Alto CA) Faraco W. George (Saratoga CA) Parikh Mihir (San Jose CA). Box door actuated retainer. USP1989034815912.
  2. Nakahara Kanefumi,JPX ; Orikasa Tsuneaki,JPX. Case for housing a substrate. USP1998045743409.
  3. Parikh Mihir (San Jose CA) Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Faraco W. George (Saratoga CA) Huang Barney H. (Sunnyvale CA). Container having disposable liners. USP1988044739882.
  4. Li Meng Chun,TWX. Electrostatic discharge-free container for insulating articles. USP2001036196391.
  5. Miyaji Akira (Tokyo JPX) Ikeda Masatoshi (Tokyo JPX). Exposure apparatus. USP1996095559584.
  6. Nakahara Kanefumi (Yokohama JPX) Nakajima Masao (Yokohama JPX) Tsuruya Toshinori (Kawasaki JPX). Exposure apparatus. USP1995085442163.
  7. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Wartenbergh Robert P. (Woodside CA) Jain Sudhir (Fremont CA) Davis Mark R. (Mountain View CA). Sealable transportable container having improved liner. USP1997035611452.
  8. Bonora Anthony C. ; Fosnight William J.. Sealable, transportable container adapted for horizontal loading and unloading. USP1999045895191.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 11

  1. Opansky,Brian Joseph; Boone,Wayne. ESD safe vacuum wand tip. USP2009027490878.
  2. Levit, Lawrence B.; Ignatenko, Alexander. Electrostatic charge measurement on semiconductor wafers. USP2004086781205.
  3. Ramamoorthy,Arun; Bristol,Robert. In-tool and out-of-tool protection of extreme ultraviolet (EUV) reticles. USP2008087413586.
  4. Dai, Yi-Ming. Method and apparatus for solving mask precipitated defect issue. USP2010027655363.
  5. Kuo, Kuei Chi. Method and structure for electrostatic discharge protection of photomasks. USP2009117612980.
  6. Kuo,Kuei Chi. Method and structure for electrostatic discharge protection of photomasks. USP2006107125755.
  7. Rolfson, J. Brett. Methods of fabricating reticles with subdivided blocking regions. USP2013028383301.
  8. Rider, Gavin Charles; Durben, Joseph A.; Lindsley, Robert K.. Reduction of electric-field-induced damage in field-sensitive articles. USP2011098016114.
  9. Cheng, Lin. Reticle box transport cart. USP2009107604306.
  10. Kolbow, Steven P.; McMullen, Kevin; Tieben, Anthony M.; Kusz, Matthew; Halbmaier, David L.; Lystad, John. Reticle pod. USP2017089745119.
  11. Rolfson, J. Brett. Reticles with subdivided blocking regions. USP2014098822108.

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