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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0668291 (1996-06-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 7 |
The present invention relates generally to a new apparatus and method for forming cavities in semiconductor substrates without the necessity of using an insert. More particularly, the invention encompasses an apparatus and a method for fabricating cavities in semiconductor substrates wherein a coate
1. A method of forming a ceramic substrate having at least one cavity, the method comprising the steps of:a) placing at least one ceramic greensheet having at least one cavity over a first plate; b) placing a planar coated membrane sheet over said cavity, wherein said coated membrane sheet has an el
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