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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0748734 (2000-12-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 13 |
Trace impurities such as organic compounds and carbon monoxide are reduced to sub-ppb levels in gases such as nitrogen, helium and argon, by gas purifying systems that contain an ultra-low emission (ULE) carbon material. Ultra-low emission (ULE) carbon materials can be made from commercially availab
1. An ultra-low emission carbon material capable of removing impurities from a gas containing said impurities to produce an ultra-pure gas without concurrently emitting moisture into said gas being purified such that the concentrations of said impurities in said ultra-pure gas product are less than
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