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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0554535 (2000-05-12) |
우선권정보 | KR-0037737 (1998-09-14) |
국제출원번호 | PCT/KR99/00541 (1999-09-14) |
§371/§102 date | 19990512 (19990512) |
국제공개번호 | WO00/15881 (2000-03-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 4 |
A gas feeding system for applications such as chemical vapor deposition (CVD) is provided. The gas feeding system comprises a plurality of reactant source supply apparatuses that are connected to a reactor to supply different reactant sources therein discontinuously or sequentially. The gas feeding
1. A gas feeding system for chemical vapor deposition reactor having at least one reactant source supply apparatus, said supply apparatus comprising:a mass flow controller for controlling the flow rate of a carrier gas which carries a reactant source; a supply tube connected between said mass flow c
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