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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0724366 (2000-11-28) |
우선권정보 | JP-0012115 (1998-01-06); JP-0344935 (1998-11-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 4 |
The substrate washing method of the present invention comprises the steps of holding the substrate substantially horizontally, supplying a cleaning liquid to a surface of the substrate through a film scrub member permeable to liquid and allowing the film scrub member in contact with the surface of t
1. A method of washing a substrate, comprising the steps of:(a) holding the substrate substantially horizontally; (b) supplying a cleaning liquid to a surface of the substrate through a film scrub member permeable to liquid and allowing the film scrub member to be in contact with a surface of the su
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