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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0545817 (2000-04-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 45 |
A cathode assembly for magnetron sputtering of a workpiece, and sputtering apparatus and methods of sputtering using same are provided. The cathode assembly includes a tubular cathode, which may be cylindrical in cross section along its length, or which may be curved or flexible, depending on the sh
1. A cathode assembly for magnetron sputtering inside an annular cavity of a hollow, curved workpiece having a non-linear axis of symmetry, comprising: a tubular cathode having a sputtering length of Ls, and being generally curved along a non-linear axis of symmetry to follow the non-linear axis of
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