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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0690016 (1996-07-31) |
우선권정보 | IT-0000851 (1993-04-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 22 |
An improved apparatus and process for the removal of gaseous impurities from an impure gas stream of hydrogen contaminated with carbon monoxide, and with one or more additional impurities such as carbon dioxide, oxygen, nitrogen, water, methane.The impure gas stream is first contacted with elemental
1. An apparatus for the removal of gaseous impurities from an impure hydrogen gas stream contaminated with carbon monoxide, and with one or more additional impurities selected from the group consisting of carbon dioxide, oxygen, nitrogen, water, methane, and mixtures thereof, to produce thereby a pu
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