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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0968265 (2001-10-01) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 16 |
Surface cleaning, chemical treatment and drying of semiconductor substrates is carried out using foam as a medium instead of a condensed phase liquid medium. In cleaning and chemical treatment, by introducing a foam into an overflow vessel the foam is caused to pass over the substrate in moving cont
1. An apparatus for treatment of a semiconductor substrate having a surface to which undesired particles adhere, the apparatus comprising:a support for holding a semiconductor substrate; a foam generator for producing a foam consisting of gas bubbles and a liquid component; and means for causing the
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