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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0451858 (1999-12-01) |
우선권정보 | DE-0055910 (1998-12-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 5 |
A cleaning apparatus for removing residues from the bottoms outflow of an evaporation apparatus which produces tops product and bottoms product and is equipped with an outflow, comprising:a) an outflow vessel (7),b) a collection vessel (8),c) an outflow valve, (10),d) a cleaning water valve (11),e)
1. A cleaning apparatus for removing residues from the bottoms outflow of an evaporation apparatus which generates a tops product and bottoms product and is equipped with a bottoms outflow, comprising:a) an outflow valve; b) a line leading from the bottom of said evaporation apparatus to the outflow
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