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Vaporization of precursors at point of use 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01F-003/04
출원번호 US-0695488 (2000-10-23)
발명자 / 주소
  • Scott Hendrickson
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Moser, Patterson & Sheridan
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 12

초록

An apparatus and method for vaporizing and delivering liquid precursors to a processing chamber is provided. In one aspect, the apparatus is a liquid delivery system including a liquid supply, a vaporization assembly fluidicly coupled to the liquid supply, the vaporization assembly consisting essent

대표청구항

1. A method for vaporizing a liquid precursor for delivery to a processing chamber, comprising:providing a liquid supply containing a liquid precursor and an ampoule coupled to the liquid supply; delivering the liquid precursor to the ampoule, wherein delivering the liquid precursor to the ampoule c

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Fukuda Takahide,JPX ; Izumi Shinichiro,JPX ; Kimura Yoshio,JPX ; Matsuyama Yuuji,JPX ; Morita Satoshi,JPX ; Tsunematsu Kunie,JPX, Apparatus for supplying a treatment material.
  2. Cheung David ; Yau Wai-Fan ; Mandal Robert R., CVD plasma assisted low dielectric constant films.
  3. Nagashima Makoto (Tokyo JPX) Nishizato Hiroshi (Chiba JPX) Ono Hirofumi (Shiga JPX), Chemical vapor deposition method and apparatus therefore.
  4. Nurmi Douglas B., Continuous gas saturation system and method.
  5. Hansen Keith J. (San Jose CA), Filtering technique for CVD chamber process gases.
  6. Ono Hirofumi (Shiga JPX), Liquid vaporizer/feeder.
  7. Kirlin Peter S. (Brookfield) Binder Robin L. (Bethlehem) Gardiner Robin A. (Bethel CT), Method for delivering an involatile reagent in vapor form to a CVD reactor.
  8. Irvine Stuart J. (Malvern GB2) Mullin John B. (West Malvern GB2) Giess Jean (Malvern GB2), Method of growing crystalline layers by vapor phase epitaxy.
  9. Fujii Atsuhiro (Itami JPX), Method of treating a substrate wherein the flow rates of the treatment gases are equal.
  10. Wang David N. (Cupertino) White John M. (Hayward) Law Kam S. (Union City) Leung Cissy (Union City) Umotoy Salvador P. (Pittsburg) Collins Kenneth S. (San Jose) Adamik John A. (San Ramon) Perlov Ilya , Thermal CVD/PECVD reactor and use for thermal chemical vapor deposition of silicon dioxide and in-situ multi-step planar.
  11. Partus Fred P. (Cobbs County GA), Vapor delivery control system and method.
  12. Sivaramakrishnam Visweswaren (Cupertino CA) Nishizato Hiroshi (Kumamoto CA JPX) Zhao Jun (Milpitas CA) Yokoyama Ichiro (Sakura JPX), Vaporization sequence for multiple liquid precursors used in semiconductor thin film applications.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Nangoy,Roy C.; D'Ambra,Allen L.; Rabinovich,Yevgeniy; Chen,David Z.; Li,Tao, Closed loop control on liquid delivery system ECP slim cell.
  2. Keyes, IV, Marion A.; Nixon, Mark J.; Blevins, Terrence Lynn, Economic calculations in a process control system.
  3. Keyes, Marion A.; Nixon, Mark J.; Blevins, Terrence Lynn, Economic calculations in a process control system.
  4. Keyes, Marion A.; Nixon, Mark; Blevins, Terrence, Economic calculations in process control system.
  5. Ravetz, Megan; Williams, Graham; Nelson, Andrew; Blunt, Roy Trevor; Williams, Howard; Odedra, Rajesh, Method and apparatus for delivering precursors to a plurality of epitaxial reactor sites.
  6. Gregg, John N.; Battle, Scott L.; Banton, Jeffrey I.; Naito, Donn K.; Laxman, Ravi, Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material.
  7. Gregg, John N.; Battle, Scott L.; Banton, Jeffrey I.; Naito, Donn K.; Laxman, Ravi K., Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material.
  8. Gregg, John N.; Battle, Scott L.; Banton, Jeffrey I.; Naito, Donn K.; Laxman, Ravi K., Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material.
  9. Gregg, John N.; Battle, Scott L.; Banton, Jeffrey I.; Naito, Donn K.; Laxman, Ravi K., Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material.
  10. Gregg, John N.; Battle, Scott L.; Banton, Jeffrey I.; Naito, Donn K.; Laxman, Ravi K., Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material.
  11. Curran,William J., Method for maintaining a constant level of fluid in a liquid vapor delivery system.
  12. Balentine, James R.; Dicaire, Andre A.; Scott, Cindy A.; Lattimer, Donald Robert; Schibler, Kenneth; Shepard, John R.; Jundt, Larry O., Software lockout coordination between a process control system and an asset management system.
  13. Cleary, John M.; Arno, Jose I.; Hendrix, Bryan C.; Naito, Donn; Battle, Scott; Gregg, John N.; Wodjenski, Michael J.; Xu, Chongying, Solid precursor-based delivery of fluid utilizing controlled solids morphology.
  14. Peterson, Neil J.; Deitz, David L.; Wilson, Grant; Zhou, Ling; Tanyous, Ebtesam S.; Worek, Christopher J.; Nixon, Mark J., Web services-based communications for use with process control systems.
  15. Peterson, Neil J.; Deitz, David L.; Wilson, Grant; Zhou, Ling; Tanyous, Ebtesam S.; Worek, Christopher J.; Nixon, Mark J., Web services-based communications for use with process control systems.
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