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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0906865 (2001-07-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 90 인용 특허 : 4 |
A method for generating a plurality of donor wafers and handle wafers prior to an order being placed by a customer. For example, a plurality of donor wafers with different silicon layer thicknesses along with a plurality of handle wafers with different oxide layer thicknesses are fabricated. Subsequ
1. A method for generating a plurality of donor wafers and handle wafers prior to an order being placed by a customer, said method comprising the steps of:receiving a desired layer thickness; selecting a donor wafer based upon said desired layer thickness from a plurality of donor wafers having diff
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