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Method of production of porous glass base material for optical fiber with cleaning of the burner with gas at 25 m/s or faster 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-037/018
출원번호 US-0423237 (1999-11-05)
우선권정보 JP-0045346 (1998-02-26)
국제출원번호 PCT/JP98/05600 (1998-12-10)
§371/§102 date 19991105 (19991105)
국제공개번호 WO99/43625 (1999-09-02)
발명자 / 주소
  • Takashi Sugiyama JP
  • Masahiko Matsui JP
  • Nobuyuki Hirano JP
  • Naoyuki Fukushima JP
  • Takao Kabaya JP
출원인 / 주소
  • Sumitomo Electric Industries, Ltd. JP
대리인 / 주소
    McDermott, Will & Emery
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 12

초록

In a method of manufacturing a porous glass preform for an optical fiber which preform is formed as a deposit of fine glass particles by using a burner, a method to prevent the contamination of any glass particles having failed to be properly deposited so that the generation of voids may be minimize

대표청구항

1. A method of manufacturing a porous glass preform for an optical fiber by depositing on the periphery of a rotating starting member, fine glass particles formed by the hydrolysis and/or oxidation of SiCl4 in a flame, said flame is produced by at least one burner supplied with a mixed gas containin

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Hayashi Shigenori (Kanagawa JPX) Yamazaki Shunpei (Tokyo JPX), Apparatus and method for depositing a film.
  2. Dykema Owen W. (23429 Welby Way West Hills CA 91307), Coal combustion process for SOx and NOx control.
  3. Nakagawa Keiji (Kadoma JPX) Nakatani Ikuyoshi (Hazukashi JPX) Sakai Takamasa (Kusatsu JPX) Muraoka Yusuke (Osaka JPX), Heat processing apparatus for semiconductor manufacturing.
  4. Fujiwara Seishi,JPX ; Komine Norio,JPX ; Jinbo Hiroki,JPX ; Suwa Toshitsugu,JPX, Manufacturing method of synthetic silica glass.
  5. Blackwell Jeffery L. ; Fu Xiaodong ; Hawtof Daniel W. ; Henderson Danny L., Method and apparatus for forming silica by combustion of liquid reactants using a heater.
  6. Raymond E. Lindner ; Robert E. McLay ; Mahendra K. Misra ; Michael H. Wasilewski, Method and apparatus for preventing burner-hole build-up in fused silica processes.
  7. Joshi Mahendra L. (Altamonte Spring FL) Broadway Lee (Eustis FL) Mohr Patrick J. (Mims FL) Nitzman Jack L. (Altamonte Spring FL), Oxy-liquid fuel combustion process and apparatus.
  8. Voorheis Temple S. (Atherton CA) Vosper Ralph R. (San Jose CA) Binasik Chester S. (Palo Alto CA) Harthun Norman (San Carlos CA), Parallel flow burner.
  9. Okazaki Hirofumi,JPX ; Kobayashi Hironobu,JPX ; Tsumura Toshikazu,JPX ; Kiyama Kenji,JPX ; Jimbo Tadashi,JPX ; Kuramashi Kouji,JPX ; Morita Shigeki,JPX ; Nomura Shin-ichiro,JPX ; Shimogori Miki,JPX, Pulverized coal burner.
  10. Toshiaki Tanaka JP; Shigeru Aoki JP, Semiconductor materials, methods for fabricating semiconductor materials, and semiconductor devices.
  11. Anderson John Erling ; Mathur Pravin Chandra, Supersonic coherent gas jet for providing gas into a liquid.
  12. Payne Roy ; Folsom Blair A. ; Sommer Todd M., System and method for removing ash deposits in a combustion device.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Pandelisev, Kiril A., Hot substrate deposition of fused silica.

문의처: helpdesk@kisti.re.kr전화: 080-969-4114

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