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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0589227 (2000-06-07) |
우선권정보 | JP-0159085 (1999-06-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 6 |
A vacuum processing apparatus for performing plasma etching in a processing chamber on a base. An actuator, when lowered, forms a closed processing chamber by pressing a lid member onto a work platform, and, when raised, opens the processing chamber by setting the lid member apart from the work plat
1. A vacuum processing apparatus with a processing chamber for processing a work; comprising:a base; a work platform on said base; a lid member forming a processing chamber when put on said work platform; an actuator for lowering said lid member onto said work platform and raising from said work pla
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