[특허]Vaporizer and apparatus for vaporizing and supplying

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-014/00 B05D-005/12
출원번호	US-0986901 (2001-11-13)
우선권정보	JP-0366607 (2000-12-01); JP-0130780 (2001-04-27)
발명자 / 주소	Yukichi Takamatsu JP Takeo Yoneyama JP Koji Kiriyama JP Akira Asano JP Kazuaki Tonari JP Mitsuhiro Iwata JP
출원인 / 주소	Japan Pionics Co., Ltd. JP
대리인 / 주소	Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보	피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 5

초록 ▼

There are disclosed a vaporizer wherein at least a portion of a CVD material feed portion in contact with a CVD material is constituted of a corrosion resistant synthetic resin; and an apparatus for vaporizing and supplying which comprises a cooler and the vaporizer wherein the inside of the CVD material feed portion of the vaporizer and the surface on the side of the vaporization chamber of the CVD material feed portion are constituted of a corrosion resistant synthetic resin; the feed portion in contact with the outside of the vaporizer is constituted of a metal; and the CVD material feed portion which is constituted of a metal and which undergoes heat transfer from the heating means upon heating the vaporization chamber can be cooled with a cooler. The vaporizer and apparatus, when used for supplying a gaseous CVD-material to CVD equipment for producing semiconductors, enables the CVD material to be efficiently vaporized and supplied at desirable concentration and flow rate without causing deposit or adhesion of the CVD material at a CVD material feed port even if a solid CVD-material is used.

대표청구항 ▼

1. A vaporizer which comprises a vaporization chamber for a CVD material, a CVD material feed portion for supplying the vaporization chamber with the CVD material, a vaporized gas exhaust port and a heating means for heating the vaporization chamber, wherein at least a portion of the CVD material feed portion in contact with the CVD material is constituted of a material comprising a corrosion resistant synthetic resin, wherein the at least a portion of the CVD material feed portion is equipped with a passageway adapted for mixing the CVD material and a carrier gas with each other inside the CVD material feed portion, and thereafter the mixture is supplied to the vaporization chamber.

이 특허에 인용된 특허 (5)

Yamamuka Mikio,JPX ; Kawahara Takaaki,JPX ; Tarutani Masayoshi,JPX ; Horikawa Tsuyoshi,JPX, Chemical vapor deposition apparatus.
상세보기
Glucksman Dov ; Weidemann Karl H., Immersion heater and support structure.
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Horie Kuniaki,JPX ; Suzuki Hidenao,JPX ; Nakada Tsutomu,JPX ; Kuriyama Fumio,JPX ; Murakami Takeshi,JPX ; Abe Masahito,JPX ; Araki Yuji,JPX ; Ueyama Hiroyuki,JPX, Liquid feed vaporization system and gas injection device.
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Fujiwara Seishi,JPX ; Komine Norio,JPX ; Jinbo Hiroki,JPX ; Suwa Toshitsugu,JPX, Manufacturing method of synthetic silica glass.
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Fuchita Eiji,JPX, Ultra fine particle gas deposition apparatus.
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이 특허를 인용한 특허 (8)

Long, Michael; Brost, Randolph C.; Grace, Jeremy M.; Freeman, Dennis R.; Redden, Neil P.; Koppe, Bruce E., Device and method for vaporizing temperature sensitive materials.
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Owa, Michiaki, Heating control device and heating control method.
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Kim, Hee-Yeon; Hong, Seok-yong, Method and apparatus for synthetizing composite using simultaneous vaporization, vaporizer for composite synthesis apparatus, vaporizer heater, and composite.
상세보기
Pan, Yi-Tsung; Young, Mu-Jen, Reaction device with peripheral-in and center-out design for chemical vapor deposition.
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Buchanan, Daryl; Tariq, Faisal; Mei, Hai; Tison, Stuart, System and method for producing and delivering vapor.
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Barbier, Jean-Paul, System for heating pressurized liquefied gas stores.
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Takamatsu,Yukichi; Tonari,Kazuaki; Iwata,Mitsuhiro; Kiriyama,Koji; Asano,Akira, Vaporizer and apparatus for vaporizing and supplying.
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Nakao, Ken; Kato, Hitoshi; Okabe, Tsuneyuki; Okura, Shigeyuki, Vaporizer and semiconductor processing system.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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