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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0648105 (2000-08-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 2 |
The present invention is directed toward an apparatus and method for the cross flow filtration of polishing slurry compositions used in semiconductor wafer planarization. In one aspect, an apparatus according to the invention includes an elongated cylindrical filter element adapted to be rotated at
1. A rotary filtration apparatus for the filtering of an abrasive polishing slurry contained within a storage volume, comprising:an elongated filter assembly having a first end, a longitudinal central axis of rotation, a second end, and a substantially cylindrical filter surface of controlled porosi
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