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Method and apparatus for decomposition of silicon oxide layers for impurity analysis of silicon wafers

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23G-001/02
출원번호 US-0557605 (2000-04-25)
발명자 / 주소
  • Steve I. Petvai
  • Leslie Jane Bohnenkamp
  • Michael P. Buet
출원인 / 주소
  • Beech Grove Technology, Inc.
대리인 / 주소
    George O. Saile
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 4

초록

A method and apparatus for decomposing a layer of silicon oxide on a silicon wafer is described which employs the application of a heated mist of aqueous HF to the cooled wafer surface. The technique is applied to the analysis of silicon wafers for trace impurities using a scanning fluid drop to col

대표청구항

1. A method for forming a liquid film over a substrate by application of a mist comprising:(a) providing a substrate; (b) providing an apparatus having; (i) a rotatable table for supporting said substrate; (ii) means for cooling said substrate; (iii) a cylindrical dome assembly positioned over said

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Maeda Ayako (Kawasaki JPX) Kageyama Mokuji (Yokohama JPX) Yoshii Shintaro (Tokyo JPX) Ogino Masanobu (Yokosuka JPX), Impurity measuring method.
  2. Petvai Steve I. (2 Bell Air La. Wappinger Falls NY 12590) Buet Michael P. (2 Mountain View Rd. New Fairfield CT 06812), Silicon semiconductor wafer test.
  3. Onda Shinzaburo (Miyagi JPX) Nozaki Kaoru (Miyagi JPX) Kato Norihiko (Miyagi JPX), Ultra high purity vapor phase treatment.
  4. Tanaka Masato (Hikone JPX) Nishizawa Hisao (Hikone JPX) Hirai Nobuyuki (Hikone JPX) Shinbara Kaoru (Hikone JPX) Yoshioka Hitoshi (Hikone JPX), Wafer cleaning method and apparatus therefore.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Cunning, Hugh; Williams, Graham; Odedra, Rajesh; Kanjolia, Ravi, Bubbler for the transportation of substances by a carrier gas.
  2. Chou, Chun-Li; Ku, Shao-Yen; Tseng, Chi-Yun; Hsu, Yu-Yen; Su, Tsai-Pao; Chen, Hobin; Shih, Sheng-Chi, Semiconductor device and method of manufacture.
  3. Kanjolia, Ravi; Platts, Chris; Nguyen, Nam; Wilkinson, Mark, Solid precursor delivery assemblies and related methods.
  4. Ito,Shoko, Total reflection X-ray fluorescence analysis method.
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