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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0692902 (2000-10-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 9 |
An apparatus and method for coupling a device to a semiconductor processing chamber is provided. The apparatus generally comprises a first ring disposed proximate a second ring. An energy dissipating media is disposed between the first and second rings. Upon the application of a torsional force in e
1. Apparatus for coupling a device to a processing chamber comprising:a first ring; a second ring adapted to rotate relative to the first ring; an energy dissipation ring disposed between said first ring and said second ring; and a turbomolecular pump coupled to said second ring.
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