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Photopolymerizable thermosetting resin compositions 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/004
  • G03F-007/038
출원번호 US-0720441 (2000-12-22)
우선권정보 EP-0810596 (1998-06-26)
국제출원번호 PCT/EP99/04234 (1999-06-18)
국제공개번호 WO00/00869 (2000-01-06)
발명자 / 주소
  • Hidetaka Oka JP
  • Masaki Ohwa JP
  • Akira Matsumoto JP
  • Hisatoshi Kura JP
출원인 / 주소
  • Ciba Specialty Chemicals Corporation
대리인 / 주소
    Tyler A. Stevenson
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 5

초록

Compositions comprising (A) an oligomer or polymer containing at least one carboxylic acid group in the molecule; (B) at least one compound of formulas (I, II, III, IV, V or VI), wherein R1 inter alia is phenyl or alkyl; R2 is for example C2-C12alkonoyl which is unsubstituted or substituted or is be

대표청구항

may be a group [EQU27]R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18 and R19 independently of one another are hydrogen, halogen, C1-C12alkyl, cyclopentyl, cyclohexyl or phenyl which is unsubstituted or substituted by one or more OR8, SR9 or NR10R11, or R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18 and R19 are benzyl, benzoy

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Steinmann Bettina (Praroman CHX) Wolf Jean-Pierre (Courtaman CHX) Schulthess Adrian (Tentlingen CHX) Hunziker Max (Dudingen CHX), (Meth)acrylates containing urethane groups.
  2. Arima Masao,JPX, One-package photosolder resist composition developable with aqueous alkali solution and method for production of printed.
  3. Hirayama Takao,JPX ; Sato Kuniaki,JPX ; Ito Toshihiko,JPX ; Yoshino Toshizumi,JPX ; Hirakura Hiroaki,JPX, Photosensitive resin composition.
  4. Yanagawa Makoto,JPX ; Tachibana Rinzo,JPX ; Yamamoto Hiroshi,JPX ; Ishikawa Tetsuji,JPX ; Kurokawa Tetsuo,JPX ; Ishida Kohichi,JPX, Photosensitive resin compositions, cured films thereof, and circuit substrates.
  5. Nobuhito Hamada JP; Koichi Yoshioka JP; Soichi Hashimoto JP, Ultraviolet-curable type photo solder resist ink.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Makino, Masaomi; Tsuchimura, Tomotaka, Compound, polymerizable composition, color filter, and method of producing the same, solid-state imaging device, and planographic printing plate precursor.
  2. Lehmann, Saskia; Schaefer, Wolfgang, Glass printing ink or lacquer of epoxy resin, other resin and photoinitiator.
  3. Liaw, Chao-Wu; Wang, Kuo-Chang; Lin, Jian-Wen; Liu, Shih-Hsien; Cheng, Kung-Lung, Liquid crystal compound with negative dielectric anisotropy, liquid crystal display, and optoelectronic device.
  4. Sasaki, Tomoya, Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same.
  5. Sasaki, Tomoya, Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same.
  6. Kunimoto, Kazuhiko; Kura, Hisatoshi; Yamamoto, Hiroshi; Nakagawa, Yumiko; Asakura, Toshikage; Sameshima, Kaori, Oxime ester photoinitiators.
  7. Tanabe, Junichi; Kura, Hisatoshi; Oka, Hidetaka; Ohwa, Masaki, Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups.
  8. Kato, Kenji; Itokawa, Gen, Photocurable and thermosetting resin composition, dry film using the same, and cured product thereof.
  9. Washio, Yasushi; Saito, Koji, Thick film photoresist composition and method of forming resist pattern.
  10. Schaefer, Wolfgang; Triantafillidis, Dimitrios, UV-curing glass printing ink and UV-curing glass printing lacquer and process for printing glass substrates.
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